[发明专利]半导体激光装置及其制造方法

说明书

本发明提供能够改善波导构造的温度特性而实现稳定的发光图案及高输出化的半导体激光装置及其制造方法。半导体激光装置(1)包括：n型披覆层(5)，积层在衬底(2)上；活性层(6)，积层在n型披覆层(5)上；p型披覆层(7)，积层在活性层(6)上；及多个波导构造(8)，形成在p型披覆层(7)上，具有俯视喇叭形状的隆起缘。在该构成中，在相互相邻的波导构造(8)之间形成有分断构造(29)，该分断构造(29)包括：槽(30)，分断活性层(6)；及散热材料(34)，填充在该槽(30)中，且具有比半导体层(4)的热导率高的热导率。

技术领域

本发明涉及半导体激光装置及其制造方法。

背景技术

近年，在半导体激光装置领域，要求产生的光(激光)高输出化，伴随此提出有各种形态。例如，作为可实现高输出化的一个形态，在专利文献1中揭示有具备具有俯视喇叭形状的隆起缘的波导构造的半导体激光装置。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平8－23133号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

本发明者为了实现半导体激光装置的进一步高输出化，而研究在同一衬底上设置多个具有俯视喇叭形状的隆起缘的波导构造的构成。认为其原因在于，通过设置多个波导构造，在理论上能够对应于波导构造的个数而使光输出成比例地增加。

然而，在设置有多个波导构造的构成中，由于这些多个波导构造同时振荡，因此在一个波导构造产生的热传导至邻接的波导构造的结果，有因热干涉而波导构造成为超过动作温度的高温的顾虑。当波导构造成为高温时，会引起半导体激光装置的光输出下降。此外，当在多个波导构造间产生温度差时，在其等之间光输出产生不均，结果无法获得设计的光输出，也会损害发光图案的稳定性。

由此，本发明的目的在于，提供一种能够改善波导构造的温度特性而实现稳定的发光图案及高输出化的半导体激光装置及其制造方法。

[解决问题的技术手段]

本发明的半导体激光装置包括：衬底；第一导电型的披覆层，积层在衬底上；活性层，积层在所述第一导电型的披覆层上；第二导电型的披覆层，积层在所述活性层上；及多个波导构造，形成在所述第二导电型的披覆层上，且具有俯视喇叭形状的隆起缘。在该构成中，在相互相邻的所述波导构造之间形成有分断构造，该分断构造包括：槽，分断所述活性层；及散热材料，填充在该槽中，且具有比所述半导体层的热导率高的热导率。

[发明的效果]

本发明的半导体激光装置设为如下构成，即，在相互相邻的波导构造之间形成有分断活性层的分断构造。分断构造包括：槽，分断活性层；及散热材料，填充在该槽中，且具有比半导体层的热导率高的热导率。通过该分断构造，能够使在多个波导构造产生的热在其等之间相互传导，因此能够抑制在多个波导构造间产生温度差。

即，通过分断构造，能够使在多个波导构造产生的热散发(排热)至外部，并且能够使多个波导构造接近于均热状态，即，在多个波导构造间温度差较少的状态。由此，能够良好地抑制在多个波导构造间产生热干涉。由此，能够提供可实现稳定的发光图案及高输出化的半导体激光装置。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式的半导体激光装置的立体图。

图2是表示图1所示的波导构造的若干个的放大俯视图。

图3是沿图2所示的III-III线的纵剖视图。

图4是沿图2所示的IV-IV线的纵剖视图。

图5是沿图2所示的V-V线的纵剖视图。