[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 201710333265.7 | 申请日: | 2017-05-12 |
公开(公告)号: | CN107371315B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 山泽阳平 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01J37/32 |
代理公司: | 11322 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳;杨艺 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种电容耦合型的等离子体处理装置,其特征在于,包括:
提供相互分离的多个腔室且接地的至少一个腔室主体;
多个上部电极;
多个下部电极;
高频电源;
具有与所述高频电源电连接的一次线圈和多个二次线圈的变压器;
多个第1电容器;和
多个第2电容器,
所述多个上部电极和所述多个下部电极,以在所述多个腔室的每一个腔室内的空间之上设置一个所述上部电极且在所述空间之下设置一个所述下部电极的方式设置,
各所述第1电容器连接在所述多个二次线圈中的一个所述二次线圈的一端与所述多个上部电极中的一个所述上部电极之间,
各所述第2电容器连接在所述多个二次线圈中的一个所述二次线圈的另一端与所述多个下部电极中的一个所述下部电极之间,
所述一次线圈绕中心轴线延伸,
所述多个二次线圈能够与所述一次线圈同轴地配置,
所述多个二次线圈各自的自感比所述一次线圈的自感小,
所述多个二次线圈各自的绕组与所述一次线圈的绕组交替卷绕。
2.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述多个第2电容器的一端分别与所述多个下部电极中的对应的下部电极连接,
所述多个第2电容器的另一端接地,
所述多个第1电容器和所述多个第2电容器是固定电容器,
在所述多个二次线圈的所述另一端与所述多个下部电极之间,作为电容器仅设置有所述多个第2电容器。
3.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述多个第1电容器和所述多个第2电容器是固定电容器,
所述多个第2电容器的一端分别与所述多个下部电极中的对应的下部电极连接,
所述多个第2电容器的另一端相对于接地电位浮置。
4.一种电容耦合型的等离子体处理装置,其特征在于,包括:
提供相互分离的两个腔室且接地的至少一个腔室主体;
两个上部电极;
两个下部电极;
高频电源;
具有与所述高频电源电连接的一次线圈和由两个二次线圈构成的多个二次线圈的变压器;
两个第1电容器;和
两个第2电容器,
所述两个上部电极和所述两个下部电极,以在所述两个腔室的每一个腔室内的空间之上设置一个所述上部电极且在所述空间之下设置一个所述下部电极的方式设置,
所述两个第1电容器中的一个所述第1电容器连接在所述两个二次线圈中的一个二次线圈的一端与所述两个上部电极中的一个上部电极之间,另一个所述第1电容器连接在所述两个二次线圈中的所述一个二次线圈的另一端与所述两个上部电极中的另一个上部电极之间,
所述两个第2电容器中的一个所述第2电容器连接在所述两个二次线圈中的另一个二次线圈的一端与所述两个下部电极中的一个下部电极之间,另一个所述第2电容器连接在所述两个二次线圈中的所述另一个二次线圈的另一端与所述两个下部电极中的另一个下部电极之间,
所述一次线圈绕中心轴线延伸,
所述多个二次线圈能够与所述一次线圈同轴地配置,
所述两个第2电容器的一端分别与所述两个下部电极中的对应的下部电极连接,
所述两个第2电容器的另一端相对于接地电位浮置,
所述两个二次线圈各自的自感比所述一次线圈的自感小,
所述多个二次线圈各自的绕组与所述一次线圈的绕组交替卷绕。
5.如权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述两个第1电容器和所述两个第2电容器是固定电容器。
6.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述多个二次线圈包括一对二次线圈,
所述一对二次线圈由在其中间接地的单一线圈形成。
7.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述多个二次线圈包括一对二次线圈,
所述一对二次线圈由具有有选择地与大地连接的多个分接抽头的单一线圈形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710333265.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于加热X射线管的系统和X射线成像设备
- 下一篇:用于回旋加速器的梯度校正器