[发明专利]量子点发光二极管及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201710331845.2 申请日: 2017-05-11
公开(公告)号: CN108878664A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 李龙基;曹蔚然;王宇 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 左光明
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 量子点 发光二极管 空穴注入层 阴极层 发光层 阳极层 制备 掺杂 空穴注入层材料 空穴注入材料 空穴注入能力 载流子平衡 阳极 层叠结合 光学性能 应用 发光 赋予
【权利要求书】:

1.一种量子点发光二极管,其特征在于:包括阳极层和阴极层,以及层叠结合在阳极层与阴极层之间的空穴注入层和量子点发光层,且所述空穴注入层与所述阳极层层叠结合,所述量子点发光层层叠结合在空穴注入层与阴极层之间,其中,所述空穴注入层材料为MoS2:Nb材料。

2.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于:所述空穴注入层的厚度为10-100nm。

3.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于:所述MoS2:Nb中的Mo与Nb的摩尔比为1:(0.001-0.01)。

4.根据权利要求1-3任一所述的量子点发光二极管,其特征在于:在所述空穴注入层与量子点发光层之间还层叠结合有空穴传输层;和/或

在所述阴极层与量子点发光层之间还层叠结合有电子传输层和/或电子注入层,其中,所述电子注入层与所述阴极层层叠结合。

5.根据权利要求4所述的量子点发光二极管,其特征在于:所述空穴传输层的材料为聚(9,9-二辛基芴-CO-N-(4-丁基苯基)二苯胺)、聚乙烯咔唑、聚(N,N'双(4-丁基苯基)-N,N'-双(苯基)联苯胺)、聚(9,9-二辛基芴-共-双-N,N-苯基-1,4-苯二胺)、4,4',4”-三(咔唑-9-基)三苯胺、4,4'-二(9-咔唑)联苯、N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、N,N'-二苯基-N,N'-(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺、掺杂石墨烯、非掺杂石墨烯、C60中的一种或多种;和/或

所述电子传输层为ZnO、TiO2、WO3、NiO、MoO3、Fe2O3、SnO2、Ta2O3、AlZnO、ZnSnO、InSnO中的一种或多种;和/或

所述电子注入层材料为Ca、Ba、CsF、LiF、CsCO3中的至少一种。

6.根据权利要求4或5所述的量子点发光二极管,其特征在于:所述空穴传输层的厚度为1-100nm;和/或

所述电子传输层较佳的厚度为30-60nm;和/或

所述电子注入层的厚度为30-60nm。

7.根据权利要求1-3、5任一所述的量子点发光二极管,其特征在于:所述含有阳极的材料为氧化锡铟、氧化铟锌中的任一种,所述阳极层厚度为20-120nm;和/或

所述阴极的材料为Al、Ag、Cu、Mo、Au中的一种或它们的合金,所述阴极较佳的厚度为60-120nm;和/或

所述量子点发光层的厚度为10-60nm。

8.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

在阳极表面制备空穴注入层的步骤,且空穴注入层材料为MoS2:Nb材料。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于:在阳极表面制备空穴注入层是采用化学沉积法制备;和/或

制备的所述空穴注入层厚度为10-100nm。

10.一种显示器件或固态照明灯具,其特征在于:所述显示器件或固态照明灯具含有权利要求1-7任一所述的量子点发光二极管或由权利要求8-9任一所述制备方法制备的量子点发光二极管。

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