[发明专利]掩膜板或显示母板以及制作显示母板上的切割标记的方法有效
申请号: | 201710330512.8 | 申请日: | 2017-05-11 |
公开(公告)号: | CN107085350B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 王波;吴小平;姜成才;李高纯 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F9/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜板 显示 母板 以及 制作 切割 标记 方法 | ||
本发明的实施例提供了一种掩膜板或显示母板以及制作显示母板上的切割标记的方法,涉及显示技术领域,解决了现有技术中在进行OLED显示母板切割时,由于没有其他的参照系,切割设备在抓取残缺或者其他的情况的切割标记时,会导致无法准确抓取到切割线从而无法保证切割时的对位精度;在复检切割后的OLED显示母板的切割精度时,由于没有明显的参照系进行测量,导致复检切割精度的难度较大的问题。该切割标记,包括第一图案、第二图案以及平直的标记线;其中,第一图案、第二图案关于平直的标记线对称。本发明实施例用于切割标记的设计。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板或显示母板以及制作显示母板上的切割标记的方法。
背景技术
随着科技的进步,有机发光二极管(英文全称:Organic Light EmittingDisplay,简称:OLED)在生活中的使用越来越广泛。在制作OLED显示面板时,通常需要对包含多个OLED显示面板的母板(也可称为OLED显示母板)进行切割,形成不同尺寸的OLED显示面板,供不同的应用场景使用。
现有技术中,在母板切割制程中进行OLED显示母板切割时,激光切割设备采用如图1所示的切割标记,该切割标记的设计形状为十字形状,长400μm,宽100μm,切割精度要求≤±50μm;在进行激光切割时,激光切割设备会抓取如图1所示的切割标记,由于现有技术中切割标记的设计较为简单,切割标记经过多个制程到达母板切割制程时可能会发生残缺或者其他的情况,由于没有其他的参照系,切割设备在抓取可能会发生残缺或者其他的情况的切割标记时,会导致无法准确抓取到切割线从而无法保证切割设备在切割时的对位精度;在检验切割后的OLED显示母板的切割精度时,由于没有明显的参照系进行测量,导致复检切割精度的难度较大。
由上述可知,现有技术中在进行OLED显示母板切割时,由于没有其他的参照系,切割设备在残抓取缺或者其他的情况的切割标记时,会导致无法准确抓取到切割线从而无法保证切割时的对位精度;在复检切割后的OLED显示母板的切割精度时,由于没有明显的参照系进行测量,导致复检切割精度的难度较大。
发明内容
本发明的实施例提供一种掩膜板或显示母板以及制作显示母板上的切割标记的方法,解决了现有技术中在进行OLED显示母板切割时,由于没有其他的参照系,切割设备在抓取残缺或者其他的情况的切割标记时,会导致无法准确抓取到切割线从而无法保证切割时的对位精度;在复检切割后的OLED显示母板的切割精度时,由于没有明显的参照系进行测量,导致复检切割精度的难度较大的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面、本发明的实施例提供一种掩膜板或显示母板,掩膜板或显示母板上设置有切割标记,切割标记包括:第一图案、第二图案以及平直的标记线;其中,第一图案、第二图案关于平直的标记线对称。
可选的,第一图案和第二图案的形状为矩形,矩形的长边与标记线平行。
可选的,切割标记还包括:第三图案和/或第四图案;第三图案位于第一图案远离平直的标记线的一侧;第四图案位于第二图案远离平直的标记线的一侧;其中,第三图案、第四图案与第一图案的形状和/或大小不相同。
可选的,第三图案为具有缺口的矩形;第四图案为具有缺口的矩形。
可选的,第三图案和第四图案关于平直的标记线对称。
可选的,切割标记还包括:关于平直的标记线对称的至少一组第五图案和第六图案;第五图案位于第一图案远离平直的标记线的一侧,第六图案位于第二图案远离平直的标记线的一侧。
可选的,第一图案、第二图案、第五图案以及第六图案之间等间距排布。
可选的,第一图案、第二图案、第五图案以及第六图案的形状大小相同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710330512.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备