[发明专利]一种电化学装置隔离膜涂层及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 201710329530.4 申请日: 2017-05-11
公开(公告)号: CN108878733B 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 程跃;邓洪贵;陈永乐;何方波;陈辉 申请(专利权)人: 上海恩捷新材料科技股份有限公司
主分类号: H01M2/14 分类号: H01M2/14;H01M2/16
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张睿
地址: 201399 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电化学 装置 隔离 涂层 及其 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种用于电化学装置的隔离膜涂层的制备方法,其特征在于,所述方法包括步骤:

(1)将粘结剂与40-50℃的分散剂混合,得到胶体溶液;

(2)将陶瓷材料与步骤(1)得到的胶体溶液混合得到浆料;

(3)将浆料进行剪切分散、涂布得到用于电化学装置的隔离膜涂层;

所述40-50℃的分散剂是经行星搅拌方式搅拌后得到的,公转转速在15-30 r/min,自转转速在1000-3000 r/min;

所述粘结剂与分散剂的混合是先进行低速公转,然后进行高速自转,转速在500-1000r/min,抽真空后再进行公转和高速自转;

步骤(2)中所述混合先进行低速公转,再进行高速自转;

步骤(3)是将浆料转移到高效流体动力剪切浆料混合器中进行剪切分散;

所述陶瓷材料选自氧化铝、勃姆石、或二氧化锆;所述分散剂选自N-甲基吡咯烷酮(NMP)、丙酮、或N,N-二甲基甲酰胺(DMAC);所述粘结剂为聚偏氟乙烯(PVDF)或聚偏氟乙烯-六氟丙烯(PVDF-HFP)。

2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中以得到的胶体溶液的总重量计,其中的粘结剂固含量为1-25wt%;步骤(2)中以得到的浆料的总重量计,其中的陶瓷固含量为1-50wt%。

3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中以得到的胶体溶液的总重量计,其中的粘结剂固含量为1.5-20 wt%。

4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中以得到的浆料的总重量计,其中的陶瓷固含量为3-15wt%。

5.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中将步骤(1)得到的胶体溶液在50℃以下抽真空后与陶瓷材料混合。

6.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)进行剪切分散后过150-220目筛网,涂布得到涂层。

7.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述陶瓷材料的粒径为0.1-20μm。

8.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述陶瓷材料的粒径为0.1-10μm。

9.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述粘结剂选自密度1.5-2.0 g/cm3, 熔点150-200℃ ,特性粘度0.5-3.0mL/g的聚偏氟乙烯。

10.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述陶瓷材料为三氧化二铝。

11.一种通过如权利要求1-10任一项所述的制备方法制得的涂层。

12.一种电化学装置隔离膜,其特征在于,所述隔离膜上涂覆有如权利要求11所述的涂层。

13.一种如权利要求12所述的电化学装置隔离膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括步骤:将如权利要求11所述的涂层涂布在基膜上,得到如权利要求12所述的电化学装置隔离膜;所述涂布的速度为5-80 米/分钟;所述涂布的方式为在基膜的单面或双面上涂布;涂布的涂层的总厚度为1-5 μm。

14.如权利要求13所述的制备方法,其特征在于,所述涂布的方式为在基膜的双面涂布。

15.如权利要求13所述的制备方法,其特征在于,涂布的涂层的总厚度为1-3 μm。

16.如权利要求13所述的制备方法,其特征在于,所述基膜选自干法制备的PP隔膜、湿法制备的PE隔膜、无纺布PET隔膜、无纺布PP隔膜、或无纺布PE隔膜;所述基膜的厚度为3-20μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海恩捷新材料科技股份有限公司,未经上海恩捷新材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710329530.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top