[发明专利]一种传送装置、基板传输系统和基板传输方法在审
申请号: | 201710326502.7 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN107082221A | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 张雨;宫晓坤 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B65G13/02 | 分类号: | B65G13/02 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 刘悦晗,陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 传送 装置 传输 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及设备制造领域,特别涉及一种传送装置、基板传输系统和基板传输方法。
背景技术
在显示面板的制造过程中,需要经过多种工艺,例如:配向层工艺、摩擦工艺、成盒工艺等,在各工艺之间需要通过传送装置对基板进行传输。图1为现有传送装置的结构示意图,传送装置包括多个平行设置的传送轴1,传送轴1上固定设置有多个滚轮2,沿与传送轴1垂直的方向形成多个滚轮列4,各滚轮列4中的各个滚轮2相互对齐设置。当传送装置工作时,传送轴1带动位于其上的滚轮2转动,各个滚轮2在在摩擦力的作用下带动基板3水平传输。
在基板传送过程中,基板表面的同一位置经滚轮列中全部滚轮的连续摩擦,容易导致基板表面的同一位置处的表面损伤,而且,现有市场对显示面板轻薄化的要求越来越高,基板均需要进行减薄处理,即利用酸碱刻蚀液对基板表面进行刻蚀,在基板减薄过程中,基板表面的损伤会影响酸碱刻蚀液对基板表面的刻蚀均一性,从而导致与滚轮列相接触的基板表面产生凹点、划伤等外观不良的不良率较高,影响显示面板的生产良率。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述不足,提供一种传送装置、基板传输系统和基板传输方法,用以至少部分解决现有传送装置损伤基板表面的问题。
为实现上述目的,本发明提供一种传送装置,包括多个平行设置的传送轴,各所述传送轴上设置有至少一个滚轮,各所述传送轴上的滚轮在传送面内形成至少一个滚轮列,所述滚轮列中的至少两个滚轮沿传送方向交错设置。
优选的,所述滚轮列中的各个滚轮沿传送方向均相互交错设置。
优选的,各所述传送轴上设置有多个滚轮,各所述传送轴上的滚轮在所述传送面内形成相应数量的滚轮列。
优选的,各所述滚轮列在所述传送面内均匀分布。
优选的,各所述滚轮列中的滚轮在所述传送面内呈直线排列。
优选的,相邻所述滚轮列在所述传送面内呈V形分布。
优选的,各所述滚轮列中的滚轮在所述传送面内呈折线排列。
优选的,相邻所述滚轮列在所述传送面内呈轴对称分布。
本发明还提供一种基板传输系统,包括如前所述的传送装置。
本发明还提供一种基板传输方法,所述基板传输方法应用于如前所述的传送装置。
本发明具有以下有益效果:
本发明提供一种传送装置、基板传输系统和基板传输方法,所述传送装置包括多个平行设置的传送轴,各传送轴上设置有至少一个滚轮,各传送轴上的滚轮在传送面内形成至少一个滚轮列,滚轮列中的至少两个滚轮交错设置。当传送装置传送基板时,滚轮列内至少有两个滚轮并排摩擦基板表面,可以减少基板表面上同一位置上所经过摩擦的滚轮的个数,相应减少基板表面同一位置处的损伤程度,提高基板表面的平整度,在基板的减薄过程中,提高酸碱刻蚀液对基板表面的刻蚀均一性,进而降低显示面板的表面产生凹点、划伤等外观不良的发生率,从而提高显示面板的生产良率。
附图说明
图1为现有的传送装置的俯视图;
图2为本实施例提供的传送装置的俯视图一;
图3为本实施例提供的传送装置的俯视图二;
图4为本实施例提供的传送装置的俯视图三;
图5为本实施例提供的传送装置的俯视图四。
图例说明:
1、传送轴 2、滚轮 3、基板 4、滚轮列 5、第一部分
6、第二部分
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的一种传送装置进行详细描述。
本实施例提供一种传送装置,如图2所示,所述传送装置包括多个平行设置的传送轴1,各传送轴1上设置有至少一个滚轮2,转动机构(图中未绘示)带动传送轴1转动,传送轴1带动其上的滚轮2转动,以使滚轮2在摩擦力的作用下水平传输基板3。各传送轴1上的滚轮2在传送面内形成至少一个滚轮列4,滚轮列4中的至少两个滚轮2沿传送方向交错设置。具体的,在图2中,各传送轴1沿横向平行排布。需要说明的是,各滚轮列4中滚轮2的数量与传送轴1的数量相同,且滚轮2与传送轴1一一对应,即对于一个滚轮列4来说,一个传送轴1上设置一个滚轮2。在本实施例中,是以传送装置包括六个传送轴1,各滚轮列4均包括位于不同传送轴1上的六个滚轮2为例进行说明的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710326502.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。