[发明专利]一种量子点膜制品及其制备方法

权利要求书

1.一种量子点膜制品，其特征在于：包括第一阻隔膜、第二阻隔膜和量子点聚合物胶层，所述量子点聚合物胶层使所述第一阻隔膜与所述第二阻隔膜分离；所述第一阻隔膜包括自上而下依次设置的第一光学微纳结构层、第一PET薄膜和第一阻隔层，所述第二阻隔膜包括自上而下依次设置的第二阻隔层、第二PET薄膜和第二光学微纳结构层。

2.一种权利要求1所述的量子点膜制品的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括如下步骤：

(1)制备第一阻隔膜：选取一厚度为20～30µm的PET薄膜，采用紫外成型工艺在PET薄膜的表面形成一层厚度为5～10µm的光学微纳结构层，在PET薄膜的另一表面通过涂布或真空镀阻隔材料，形成一层厚度为5～15µm的阻隔层，进而形成第一阻隔膜；

(2)制备第二阻隔膜：选取一厚度为20～30µm的PET薄膜，采用紫外成型工艺在PET薄膜的表面形成一层厚度为5～10µm的光学微纳结构层，在PET薄膜的另一表面通过涂布或真空镀阻隔材料，形成一层厚度为5～15µm的阻隔层，进而形成第二阻隔膜；

灌夹量子点聚合物胶：将步骤（1）的第一阻隔膜的阻隔层和步骤（2）的第二阻隔膜的阻隔(3)层相对设置，且在两阻隔层之间通过专用紫外成型设备以5～10m/min的成型线速度及1000～1200mJ/cm²的能量灌夹量子点聚合物胶，形成一层厚度为20～40µm且具有0.1～1wt%量子点的量子点聚合物胶层，进而形成量子点膜制品。

3.根据权利要求2所述的量子点膜制品的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）第一阻隔膜和步骤（2）第二阻隔膜中的阻隔材料为二氧化硅材料或氧化铝材料中的任一种。

4.根据权利要求2所述的量子点膜制品的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中量子点的量子点聚合物胶层的量子点选用自加利福尼亚州帕洛阿尔托的纳米系统公司供应的直径为1～20nm的量子点材料。

5.根据权利要求2所述的量子点膜制品的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中量子点的量子点聚合物胶层的聚合物胶为丙烯酸酯聚合物及固化引发剂的混合物、环氧树脂聚合物及固化引发剂的混合物或丙烯酸酯聚合物、环氧树脂聚合物及固化引发剂的混合物中的任一种。