[发明专利]一种养心菜的气雾栽培种植方法在审

专利信息
申请号: 201710319549.0 申请日: 2017-05-09
公开(公告)号: CN106982726A 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 王树民;徐箴言;程显品 申请(专利权)人: 山东艾维农业科技有限公司
主分类号: A01G31/00 分类号: A01G31/00;C05G1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 264003 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 养心 栽培 种植 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及设施农业种植领域,尤其是一种养心菜的气雾栽培种植方法。

背景技术

养心菜,根据《植物学》中文名费菜,拉丁文名Sedum.k.F;现代国内中草药书刊介绍学名景天三七、土三七,拉丁文名Sedum aizoon L.实质也指养心菜。原产东亚,中国东北、华北、华东各地区有分布,生于山坡林缘、山谷林下、灌丛、河岸阴湿地方。性耐寒,喜阳光及干燥通风处,忌水湿,对土壤性质要求不严,是古老珍贵而濒临绝迹的植物。

它集观赏、药用、食用等多功能于一身,具有很高的实用价值。可盆栽于居室阳台,也可点缀于花坛和园林绿化区;它全棵可入药,是一味民间常用的广谱高效草药;作为蔬菜食用,是21世纪家庭餐桌上的一道美味佳肴,常食可增强人体免疫力,有很好的食疗保健作用。制成养心茶,泡出茶水色香味纯正,长期饮用可高效抑制失眠、心悸、烦闷。

目前养心菜种植普遍是有土栽培,土壤病虫害,造成养心菜种植用药过度。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种养心菜的气雾栽培种植方法,规避土壤种植的病虫害,提高养心菜产量和质量。

为实现上述目的,本发明提出一种养心菜的气雾栽培种植方法,其包括如下步骤:

1)育苗床育苗(附图1):剪取枝条8-15cm,叶片去掉,扦入在温室育苗床珍珠岩基质内,用气雾喷淋,保持珍珠岩湿度,最终获得养心菜苗;

2)移栽:所述养心菜苗生根成活,将所述养心菜苗移栽到温室内气雾栽培定植桶(附图2);

3)营养生长管理:根据阳光可以旋转气雾栽培定植桶,保持阳光均好,促进养心菜生长;

4)收获:养心菜苗的高度到20-30cm时可以收获,收获后养心菜根保留在气雾栽培定植桶上,继续下一周期生长养心菜。

进一步的,为了实现本发明提出的一种养心菜的气雾栽培种植方法,所述气雾栽培定植桶内间歇喷雾气雾营养液,所述营养液配方为(以每吨水的加入量计):硝酸钙945g/t,硝酸钾809g/t,磷酸二氢铵153g/t,硫酸镁493g/t,硼酸2.86g/t,硫酸锰2.13g/t,硫酸锌0.22g/t,硫酸铜0.08g/t,钼酸铵0.02g/t,螯合铁20~40g/t。

本发明的有益效果:采用这种方法种植的养心菜,生长周期短,无土传病虫害,适合规模化和工厂化生产。

附图说明

附图1是本发明的育苗床剖面结构图。

附图2是本发明的气雾栽培定植桶立剖示意图。

1、珍珠岩, 2、喷头, 3 3’ 3” 、喷头。

具体实施方式

实施例1

一种养心菜的气雾栽培种植方法,其包括如下步骤:

1)育苗床育苗(附图1):剪取枝条8-15厘米,叶片去掉,扦入在温室育苗床珍珠岩基质内,用气雾喷淋,保持珍珠岩湿度,最终获得养心菜苗;

2)移栽:所述养心菜苗生根成活,将所述养心菜苗移栽到温室内气雾栽培定植桶(附图2);

3)营养生长管理:根据阳光可以旋转气雾栽培定植桶,保持阳光均好,促进养心菜生长;

4)收获:养心菜苗的高度20cm时可以收获,收获后养心菜根保留在气雾栽培定植桶(附图2)上,继续下一周期生长养心菜。

实施例2

一种养心菜的气雾栽培种植方法,其包括如下步骤:

1) 育苗床育苗(附图1):剪取枝条8-15厘米,叶片去掉,扦入在温室育苗床珍珠岩基质内,用气雾喷淋,保持珍珠岩湿度,最终获得养心菜苗;

2)移栽:所述养心菜苗生根成活,将所述养心菜苗移栽到温室内气雾栽培定植桶(附图2);

3)营养生长管理:根据阳光可以旋转气雾栽培定植桶,保持阳光均好,促进养心菜生长;

4)收获:养心菜苗的高度25cm时可以收获,收获后养心菜根保留在气雾栽培定植桶(附图2)上,继续下一周期生长养心菜。

实施例3

一种养心菜的气雾栽培种植方法,其包括如下步骤:

1) 育苗床育苗(附图1):剪取枝条8-15厘米,叶片去掉,扦入在温室育苗床珍珠岩基质内,用气雾喷淋,保持珍珠岩湿度,最终获得养心菜苗;

2)移栽:所述养心菜苗生根成活,将所述养心菜苗移栽到温室内气雾栽培定植桶(附图2);

3)营养生长管理:根据阳光可以旋转气雾栽培定植桶,保持阳光均好,促进养心菜生长;

4)收获:养心菜苗的高度到30cm时可以收获,收获后养心菜根保留在气雾栽培定植桶(附图2)上,继续下一周期生长养心菜。

显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质新的改进,或者未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用在其他场合的,均在本发明的保护范围内。

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