[发明专利]化学液体的等离子体处理方法及设备

权利要求书

1.一种化学液体的等离子体处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

将待处理液体进行雾化处理后与等离子体混合形成气液混合物，气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应，以实现对液体的处理。

2.根据权利要求1所述的化学液体的等离子体处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

雾化处理：先将部分待处理液体进行雾化处理，得到雾滴颗粒；

与等离子体反应：雾滴颗粒与等离子体混合形成气液混合物，气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中；

重复雾化以及与等离子体反应的步骤直至全部的待处理液体被处理。

3.根据权利要求1或2所述的化学液体的等离子体处理方法，其特征在于，待处理液体经雾化后所得雾滴颗粒的尺寸为0.2－200微米。

4.根据权利要求1或2所述的化学液体的等离子体处理方法，其特征在于，所述等离子体的气源包括化学液体蒸汽、空气、水蒸气、氧气、氮气或二氧化碳中的任意一种。

5.一种实现权利要求1－4任一项所述的化学液体的等离子体处理方法的处理设备，其特征在于，包括用于盛放待处理液体的容器，所述容器设有进液口、出液口和用于连通等离子体发生器的进气口；所述容器连接有用于雾化待处理液体的雾化器；

所述出液口通过循环管路与所述进液口连通，所述循环管路上设有循环泵。

6.根据权利要求5所述的处理设备，其特征在于，所述雾化器设置于所述出液口处；

或，

所述雾化器设置于所述进液口处；

或，

所述雾化器设置于容器内部并连接于进液口处循环管路向容器内的延伸部。

7.根据权利要求5所述的处理设备，其特征在于，所述雾化器设置于所述容器的底部。

8.根据权利要求5－7任一项所述的处理设备，其特征在于，所述容器的顶部设有用于防止容器内压力过高的限压阀；

优选地，所述限压阀连接有排气时用于防止液体成分流失的汽水分离器。

9.一种实现权利要求1－4任一项所述的化学液体的等离子体处理方法的处理设备，其特征在于，包括用于盛放待处理液体的第一容器、用于生成气液混合物的第二容器和用于雾化所述待处理液体的雾化器；

所述第一容器包括第一进液口和第一出液口，所述第二容器包括第二进液口和第二出液口；所述第一出液口与所述第二进液口通过第一管道相连通，所述第二出液口与所述第一进液口通过第二管道相连通；所述第一管道和所述第二管道上均设有循环泵；

所述第二容器还包括有进气口，所述进气口连接有等离子体发生器。

10.根据权利要求9所述的处理设备，其特征在于，所述雾化器设置于所述第一出液口处；

或，所述雾化器设置于所述第二进液口处；

或，所述雾化器设置于所述第一容器的底部；

或，所述雾化器设置于所述第二容器的内部并与第一管道在第二进液口处向内的延伸部连接。