[发明专利]光学组件及光伏器件在审
申请号: | 201710317925.2 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN109407186A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 谷鋆鑫;贺赫 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃公司 |
主分类号: | G02B1/113 | 分类号: | G02B1/113;G02B1/115;H01L31/0216 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 胡莉莉;申屠伟进 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学组件 抗反射层 透光基 光伏器件 粗糙度 | ||
本发明涉及光学组件及光伏器件。所述光学组件包括透光基底以及设于所述透光基底上的抗反射层;其中透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为0.5μm至1.8μm,所述抗反射层的厚度为80‑160nm。
技术领域
本发明一般涉及光学材料领域,并且具体涉及光学组件及光伏器件。
背景技术
随着不可再生能源的逐渐枯竭以及矿物类资源生产、使用中产生的各种环境污染问题,各国都在用政策的、法律的手段逐步加大对可再生能源和清洁能源的开发利用,并努力提高其在整个能源使用中的比例。在这些清洁和可再生能源中,利用太阳能光伏发电是其中最重要的能源方式之一。
如图1所示,太阳能光伏发电的基本原理是利用太阳能电池的光生伏打效应直接把太阳能转变为电能的一种发电方式。太阳能光伏发电的能量转换器就是太阳能电池,也叫光伏电池。当太阳光9照射到由p、n型两种不同导电类型的同质半导体材料构成的太阳能电池上时,其中一部分光线被反射,一部分光线被吸收,还有一部分光线透过电池片。被吸收的光能激发被束缚的高能级状态下的电子,产生电子一空穴对,在p-n结的内建电场作用下,电子、空穴相互运动积累。在电池两端接上负载,负载上就有电流通过,当光线一直照射时,负载上将源源不断地有电流流过。
在光伏器件、显示器等产品中,如何减少光的反射一直是研究的热点。本领域技术人员研究发现,对于光从空气投射至基底的情形,可以在基底上形成一层抗反射膜8,在所述抗反射膜的折射率为空气折射率与基底折射率乘积的平方根时(即满足折射率匹配的条件),所述抗反射膜的厚度为波长的四分之一时(即满足厚度匹配的条件),所述抗反射膜能起到良好的减少反射作用。
在实际生产中,基底不可避免会选择不同批次的。由多个不同批次基底涂覆抗反射膜所形成的盖板组合在光线下的外观形貌见图2。由图2可知,光伏组件的外表光泽度具有较大的差异,光泽度的差异直接导致了外观形貌大不相同,这在居住领域是不可接受的。
发明内容
针对背景技术中提到的问题,获得一种具有高度一致的光泽度的光学组件及光伏器件将是有利的。进一步而言,将光泽度控制在28+/-5GU的范围内将是有利的。
根据本发明的一个方面,提供一种光学组件,包括透光基底以及设于所述透光基底上的抗反射层;其中透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为0.5μm至1.8μm,所述抗反射层的厚度为80-160nm。优选地,所述透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为0.5μm至0.9μm,所述抗反射层的厚度为120-160nm;或者优选地,所述透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为1.4μm至1.8μm,所述抗反射层的厚度为80-120nm。
本发明的发明人发现,这样结构的光学组件能够具备28+/-5GU的范围内的光泽度且光泽度能保持高度一致。
在一个实施例中,所述透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为0.5μm至0.9μm,所述抗反射层辊涂在所述透光基底上,所述辊涂的线速度为10m/min至12m/min。
在另一个实施例中,所述透光基底靠近所述抗反射层的一面的粗糙度为1.4μm至1.8μm,所述抗反射层辊涂在所述透光基底上,所述辊涂的线速度为6m/min至8m/min。
本发明的发明人发现,采用涂覆工艺并选择特定的涂覆线速度,可以非常简单地实现光泽度的控制。
在一个实施例中,所述抗反射层的固含量为2.7%-2.9%。
本发明的发明人发现,对抗反射层的固含量的控制和优化,可以更好地实现光泽度的控制。
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