[发明专利]流体喷射装置的维护设备

说明书

本发明提供一种流体喷射装置的维护设备。所述维护设备包括覆盖结构，连接至枢转机构，使得所述覆盖结构在所述流体喷射装置的喷射头上方枢转，从覆盖所述喷射头的第一位置移动至展露所述喷射头的第二位置。

技术领域

本发明涉及流体结构及流体喷射装置的维护设备。

背景技术

流体结构的应用之一是将溶液射出至其中可执行辅助功能的另一装置上。常见的辅助功能是使用加热器将溶液汽化，以使得溶液的成分可被汽化，从而将溶液作为气态物质进行递送。此种技术的应用包括但不限于：电子烟的计量与汽化装置、蒸汽疗法、气态药物递送、微型实验室的汽相反应等。在所有这些应用中，均使用流体喷射头将流体喷射至受热表面上，以将流体汽化至排放导管中。对于一些应用来说，将要被喷射的流体具有相对低的汽化温度，且因此可随时间蒸发而穿过喷射头中的喷射喷嘴。对于其他应用来说，在各次使用之间对喷射头造成的污染可能是一项问题。在一些应用中，流体可在喷射头上留下残余物，随着时间推移，此残余物将会抑制从喷射头恰当地喷射出流体或者可能会堵塞喷射喷嘴。由于此类装置的尺寸较小，因而对此类装置进行维护以便获得精确的流体喷射量会成问题。流体喷射头的传统维护装置在对喷射头进行覆盖及清洁时需要相对大的区域。

因此，需要一种可在装置未被使用时运作以保护喷射头且可清洁喷射头以维护对流体的恰当喷射的设备。

发明内容

鉴于上述内容，本发明的实施例提供一种流体喷射装置的维护设备。所述维护设备包括覆盖结构，连接至枢转机构，使得所述覆盖结构在所述流体喷射装置的喷射头上方枢转，从第一覆盖位置移动至展露所述喷射头的第二位置。

在其他实施例中，所述覆盖结构包括：位于其中的开孔，当所述覆盖结构移动至所述第二位置时，所述开孔供流体从中流过。进一步可包括擦拭片，当所述覆盖结构移动至所述第一位置及所述第二位置时，所述擦拭片清洁所述喷射头。

所述覆盖结构安置于所述喷射头与所述流体喷射装置中的汽化加热器之间。

所述覆盖结构邻近所述流体喷射装置的蒸汽排出导管安置。

所述枢转机构包括枢转构件及轴，所述轴的一端附接至所述枢转构件，且所述轴的另一端附接至所述覆盖结构。

在一些实施例中，所述枢转构件安置于所述流体喷射装置的蒸汽排出导管上。

所述轴安置于所述蒸汽排出导管中。

所述枢转构件绕所述蒸汽排出导管而枢转以使所述覆盖结构从所述第一位置移动至所述第二位置。

所述枢转机构包括连杆，所述覆盖结构经由所述轴与所述连杆而连接至所述枢转构件。

所述枢转构件安置于所述流体喷射装置的主体内。

所述枢转构件包括滑动杆，所述滑动杆穿过所述流体喷射装置的所述主体中的狭槽而安置。

所述枢转构件包括指示器，所述指示器的位置随着所述枢转构件的枢转而改变，以示出所述喷射头是被所述覆盖结构覆盖或展露。

在另一实施例中，所述覆盖结构包括用于当被所述枢转机构移动至所述第一位置时覆盖所述喷射头的喷嘴帽。

在一个实施例中，提供一种流体喷射装置，所述流体喷射装置包括：喷射头，供流体流动；汽化加热器，将从所述喷射头喷射出的流体汽化；蒸汽排出导管，与所述汽化加热器进行流动连通；以及上述的维护设备。

附图说明

通过参照以下详细说明、附图及权利要求书，可明白本发明的其他特征及优点，其中：

图1是根据本发明实施例的流体喷射装置的立体图。

图2A是根据本发明第一实施例的用于流体喷射头的覆盖结构的俯视立体图，其未按比例绘制。