[发明专利]一种射频消融装置以及射频消融控制方法

权利要求书

1.一种射频消融装置，其特征在于，包括射频产生模块、测量模块、控制处理模块，所述射频产生模块和所述测量模块与所述控制处理模块相连，所述射频产生模块被配置为随温度反馈控制射频功率。

2.如权利要求1所述的射频消融装置，其特征在于，还包括电极模块，其中所述电极模块中的一部分电极被配置为射频电极，另一部分电极被配置为检测电极。

3.如权利要求1所述的射频消融装置，其特征在于，还包括电极模块，其中所述电极模块被配置为射频电极和检测电极共用。

4.如权利要求1或2或3所述的射频消融装置，其特征在于，所述测量模块通过检测电极实时测量消融部位的温度值和阻抗值。

5.如权利要求1或2或3所述的射频消融装置，其特征在于，所述控制处理模块被配置为对所述测量模块返回数据进行处理，并根据处理的结果进一步闭环控制所述射频产生模块。

6.一种射频消融控制方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、射频发生模块发出射频信号；

步骤2、控制处理模块根据参数控制指令改变射频信号功率；

步骤3、射频电极输出射频功率，检测电极检测温度值；

步骤4、检测得到的温度值经过采样和变换后，送到所述控制处理模块；

步骤5、所述控制处理模块经过闭环控制算法计算后，根据温度阈值，判断是产生新的参数控制指令并进入步骤2，还是或等待下一次温度值。

7.如权利要求6所述的射频消融控制方法，其特征在于，在步骤3中，还包括检测电极检测阻抗值；在步骤5中，还包括判断阻抗阈值。

8.如权利要求6所述的射频消融控制方法，其特征在于，如果检测到的温度值高于所述温度阈值上限，则所述控制处理模块产生新的参数控制指令并进入步骤2；如果检测到的温度值小于所述温度阈值上限，则等待下一次温度值。

9.如权利要求7所述的射频消融控制方法，其特征在于，如果检测到的阻抗值高于所述阻抗阈值上限或低于阻抗阈值下限，则所述控制处理模块产生新的参数控制指令并进入步骤2；如果检测到的阻抗值在所述阻抗阈值的上下限之间，则等待下一次阻抗值。

10.如权利要求6所述的射频消融控制方法，其特征在于，所述闭环控制算法为PID控制算法包括以下步骤：

步骤51、初始阶段射频电压线性上升；

步骤52、一旦进入饱和阶段就遇限削弱积分；

步骤53、保持射频电压一段预设的时间；

步骤54、执行微分分离的算法，即当温度测量值与预设值差别较大时，引入微分运算；当实测值靠近预设值，相差较小时，去除微分运算。