[发明专利]光学膜、具备该光学膜的柔性设备构件及树脂组合物在审
| 申请号： | 201710312249.X | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN107356989A | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 望月胜纪;上田和正;岸田明子;李宗铭;吕奇明;林志成;曾永隆 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社;财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 赵雁,金世煜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 具备 柔性 设备 构件 树脂 组合 | ||
1.一种光学膜，其含有树脂和通过扫描型电子显微镜的图像解析测定的平均一次粒径为21nm～40nm的二氧化硅微粒，
以所述树脂和所述二氧化硅微粒的合计含量为基准，所述二氧化硅微粒的含量为15质量％～80质量％。
2.如权利要求1所述的光学膜，其中，所述树脂含有聚酰亚胺系高分子。
3.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，所述二氧化硅微粒的平均一次粒径为25nm～40nm。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光学膜，其中，通过扫描型电子显微镜的图像解析求出的所述二氧化硅微粒的变动系数大于0且为0.5以下。
5.如权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，以所述树脂和所述二氧化硅微粒的合计含量为基准，所述二氧化硅微粒的含量为25质量％～60质量％。
6.如权利要求1～5中任一项所述的光学膜，其进一步含有相对于所述树脂和所述二氧化硅微粒的合计含量100质量份为0.1质量份～3质量份的具有反应性基团的烷氧基硅烷化合物。
7.如权利要求1～6中任一项所述的光学膜，其中，膜厚50μm时的总光线透射率为85％以上，雾度为2.0以下。
8.如权利要求1～7中任一项所述的光学膜，其中，膜厚为20μm～200μm。
9.一种柔性设备构件，其具备权利要求1～8中任一项所述的光学膜。
10.一种树脂组合物，其含有树脂和二氧化硅微粒，所述树脂含有聚酰亚胺系高分子，所述二氧化硅微粒通过BET法测定的平均一次粒径为16nm～40nm且通过动态光散射法测定的体积平均粒径为25nm～65nm。
11.如权利要求10所述的树脂组合物，其中，以所述树脂和所述二氧化硅微粒的合计含量为基准，所述二氧化硅微粒的含量为15质量％～80质量％。
12.如权利要求10或11所述的树脂组合物，其中，所述二氧化硅微粒通过动态光散射法测定的体积平均粒径的多分散指数为15％以下。
13.一种光学膜，其是使用权利要求10～12中任一项所述的树脂组合物而成的。
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