[发明专利]具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的制备方法及应用

权利要求书

1.具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的制备方法，其特征在于该方法具体是按以下步骤完成的：

一、制备图案化的PDMS印章：

将聚二甲基硅氧烷的预聚物A和固化剂B混合，首先在搅拌速度为200r/min～500r/min下搅拌5min～8min，然后在离心速度为3000r/min～4000r/min下离心5min～8min，得到混合溶液；将混合溶液倾倒在装有图案化的硅基板的培养皿中，再将培养皿在温度为60℃～80℃下真空固化1h～3h，在硅基板上得到图案化的PDMS印章；将图案化的PDMS印章从硅基板上剥离，得到图案化的PDMS印章；

步骤一中所述的聚二甲基硅氧烷的预聚物A与固化剂B的质量比为10:1；

二、聚电解质复合物的制备：

将聚电解质电子对加入到容器中，再在温度为70℃～80℃和搅拌速度为300r/min～800r/min下磁力搅拌15min～25min，在溶液中得到絮状结构的聚电解质复合物；

步骤二中所述的聚电解质电子对为PSS/PDDA的混合液或PAA/PAH的混合液；所述的PSS/PDDA的混合液为聚苯乙烯磺酸钠的氯化钠溶液与聚丙烯酸酯的氯化钠溶液按照体积比1:1混合而成；所述的PAA/PAH的混合液为聚丙烯酸的氯化钠溶液与多环芳烃的氯化钠溶液按照体积比1:1混合而成；

三、将絮状结构的聚电解质复合物从溶液中取出，再将絮状结构的聚电解质复合物盖在步骤一中得到的图案化的PDMS印章上，再向覆盖有絮状结构的聚电解质复合物的图案化的PDMS印章上施加20kPa～130kPa，再在温度为60℃～75℃和压力为20kPa～130kPa下保压5min～15min，再进行转印，转印时间为5min～15min，再将聚电解质复合物与图案化的PDMS印章分离，得到具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物；

步骤三中所述的转印为热转印，转印温度为60℃～100℃；

步骤三中所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的厚度为0.1μm～30μm。

2.根据权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的制备方法，其特征在于步骤一中所述的图案化的PDMS印章为阵列的边长为10μm的正方体。

3.根据权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的制备方法，其特征在于步骤二中所述的聚苯乙烯磺酸钠的氯化钠溶液为聚苯乙烯磺酸钠、氯化钠和蒸馏水的混合液，聚苯乙烯磺酸钠的氯化钠溶液中聚苯乙烯磺酸钠的浓度为2mg/mL，氯化钠的浓度为2mol/L；所述的聚丙烯酸酯的氯化钠溶液为聚丙烯酸酯、氯化钠和蒸馏水的混合液，聚丙烯酸酯的氯化钠溶液中聚丙烯酸酯的浓度为2mg/mL，氯化钠的浓度为2mol/L。

4.根据权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的制备方法，其特征在于步骤二中所述的聚丙烯酸的氯化钠溶液为聚丙烯酸、氯化钠和蒸馏水的混合液，聚丙烯酸的氯化钠溶液中聚丙烯酸的浓度为2mg/mL，氯化钠的浓度为2mol/L；所述的多环芳烃的氯化钠溶液为多环芳烃、氯化钠和蒸馏水的混合液，多环芳烃的氯化钠溶液中多环芳烃浓度为2mg/mL，氯化钠的浓度为2mol/L。

5.如权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的应用，其特征在于具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物基于光衍射效果用于判断对外部环境的应激性反应。

6.如权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的应用，其特征在于具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物作为智能超级透视材料应用。

7.如权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的应用，其特征在于具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物应用于超级分辨率技术中。

8.如权利要求1所述的具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物的应用，其特征在于具备应激响应的图案化微纳米结构的聚电解质复合物作为应激响应的散射媒介应用。