[发明专利]表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃及其制备方法有效
| 申请号： | 201710304030.5 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN106946471B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 伏开虎;金扬利;邱阳;徐博;刘永华;赵华;祖成奎;何坤;王琪;陈玮;张瑞 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究总院 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硫系玻璃 制备 类金刚石膜 增透膜 表面镀 增透 类金刚石膜沉积 电子束蒸发法 褶皱 磁控溅射法 非镀膜面 附着性能 物理防护 抽真空 透过率 镀制 面形 烧蚀 清洗 加工 | ||
1.一种表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃的制备方法，其特征在于，其包括:
1）清洗硫系玻璃基片，抽真空；
2）采用电子束蒸发法在所述的硫系玻璃基片上制备增透膜；
3）利用磁控溅射法在所述的增透膜上镀制类金刚石膜；
所述的增透膜为六层，其中所述的增透膜与类金刚石膜接触的一层为锗膜；
所述的锗膜厚度为50nm。
2.根据权利要求1所述的硫系玻璃的制备方法，其特征在于，所述的步骤2）的真空度小于3×10-3 Pa，镀膜温度低于所述硫系玻璃基片的转变温度。
3.根据权利要求1所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃的制备方法，其特征在于，所述的步骤3）包括：抽真空至3×10-3 Pa以下，通入工作气体，采用间隙式镀膜方式镀制类金刚石膜层，镀膜温度低于所述硫系玻璃基片的转变温度。
4.根据权利要求1所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃的制备方法，其特征在于，所述的步骤3）的靶材为高纯石墨；工作压力为0.1-50Pa，沉积功率为10-5000W，靶基距为2-50cm。
5.根据权利要求1所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃的制备方法，其特征在于，所述的步骤3）的工作气体为氩气、氩气和碳氢气体混合气、氩气和氢气混合气中的一种。
6.一种表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃，其特征在于，其包括：
硫系玻璃基片；
第一增透膜层，附着在所述的硫系玻璃基片的一侧；
类金刚石膜层，附着在所述的第一增透膜层；所述的第一增透膜为六层，其中所述的第一增透膜与类金刚石膜接触的一层为锗膜；所述的锗膜厚度为50nm；
第二增透膜层，附着在所述的硫系玻璃基片的另一侧。
7.根据权利要求6所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃，其特征在于，所述的第二增透膜层为一层或多层。
8.根据权利要求6所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃，其特征在于，所述的类金刚石膜层的厚度小于等于500nm。
9.根据权利要求6所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃，其特征在于，所述的表面镀有高增透类金刚石膜的硫系玻璃的硬度为6-15GPa。
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