[发明专利]多相液态石墨烯的离子镶嵌方法

权利要求书

1.一种多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、石墨烯分散：将石墨烯材料溶合到非离子螯合剂中，进行石墨烯的分散；

S2、离子材料的渗透：将带有目标离子的化合物溶液溶入非离子螯合剂中，使目标离子均匀扩散，并渗透到石墨烯的晶格上；

S3、多相离子材料成型：在抽真空的条件下将物料进行均匀混合，使目标离子与石墨烯晶格进行均匀渗透，形成初步的液态多相离子材料；

S4、高温烧结：将液态多相离子材料进行高温烧结，形成多相组合的功能石墨烯材料。

2.根据权利要求1所述的多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于，在S1中选用的石墨烯材料为不需要进行还原反应的带完整晶格的石墨烯结构。

3.根据权利要求2所述的多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于，在S2中选用的带目标离子的化合物包括三种带不同目标离子的化合物，石墨烯与三种不同目标离子合成的石墨烯材料为三元石墨烯材料。

4.根据权利要求3所述的多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于，在S2中三种带不同目标例子的化合物分别为A离子化合物材料、B离子化合物材料以及C离子化合物材料，石墨烯以三晶格分子质量搭配三种不同材料，具体的配比以摩尔质量计算为：

三晶格式石墨烯 1mol；

A离子化合物材料1mol；

B离子化合物材料1mol；

以及C离子化合物材料1mol。

5.根据权利要求1所述的多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于， 在S2中选用的带目标离子的化合物均为离子化合物，且所述目标离子为金离子、银离子、铂离子、铜离子、铁离子或稀土离子。

6.根据权利要求1所述的多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于，在S1中使用的非离子螯合剂为（NH4）4‧EDTA或（NH4）4‧PTDA。

7.根据权利要求1所述的多相液态石墨烯的离子镶嵌方法，其特征在于，在S4中高温烧结的温度是200-450℃，高温烧结的时间为2-4h。