[发明专利]温室大棚的控制方法、控制装置和服务器

说明书

技术领域

本发明涉及温室大棚控制技术领域，具体而言，涉及温室大棚的控制方法、温室大棚的控制装置和服务器。

背景技术

目前，在对温室大棚进行种植管理时，需要种植工作人员参与，例如，浇水、施肥、喷洒农药，对温室大棚进行种植管理时不仅会占用大量的人力资源，而且参与管理的种植工作人员需要有一定的工作经验，例如，具有判断何时浇水、何时施肥和何时喷洒农药的能力。

因此，如何对温室大棚进行自动化控制，减少种植工作人员的参与成为亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明正是基于上述问题，提出了一种新的技术方案，可以对温室大棚进行自动化控制，减少种植工作人员的参与。

有鉴于此，本发明的第一方面提出了一种温室大棚的控制方法，用于服务器，所述温室大棚的控制方法包括：采集温室大棚中植物的生长参数；获取所述温室大棚中植物的名称，根据所述名称从云端数据库获取所述温室大棚中植物的最佳生长环境条件；检测所述生长参数是否满足所述最佳生长环境条件；若所述生长参数不满足所述最佳生长环境条件，则对所述温室大棚进行控制，直到所述生长参数满足所述最佳生长环境条件时为止。

在该技术方案中，通过检测温室大棚中植物的生长参数是否符合该植物的最佳生长环境条件，来确定植物当前的生长环境是否适宜，当检测当前的生长环境不适宜植物生长时，自动对温室大棚进行控制，以使植物生长在一个适宜的环境中，从而减少了种植工作人员的种植工作量。而且本方案不需要依靠专业的种植工作人员，避免了对种植工作人员进行专业工作的培训。另外，由于植物种类比较多，存储各种植物的最佳生长环境条件的相关数据会占用较大的空间，因此，通过将各种植物的最佳生长环境条件存储在云端数据库中，可以有效缓解服务器存储数据的压力。

在上述技术方案中，优选地，所述生长参数包括以下之一或多种的组合：土壤湿度、土壤成分、植物叶片成分，以及所述对所述温室大棚进行控制，具体包括：若所述土壤湿度不满足所述最佳生长环境条件，则控制所述温室大棚自动进行灌溉；若所述土壤成分不满足所述最佳生长环境条件，则控制所述温室大棚自动进行施肥；若所述植物叶片成分不满足所述最佳生长环境条件，则控制所述温室大棚自动喷洒农药。

在该技术方案中，可以自动对温室大棚进行灌溉、施肥和喷洒农药，实现温室大棚的自动化控制，从而有效地减少了种植工作人员的工作量。

在上述任一技术方案中，优选地，还包括：在控制所述温室大棚自动进行灌溉之后，记录灌溉所述温室大棚时使用的水量、灌溉时间和灌溉区域；在控制所述温室大棚自动进行施肥之后，记录肥料的名称、施肥时间和施肥区域；在控制所述温室大棚自动喷洒农药之后，记录喷洒的农药的名称、喷洒农药的时间和喷洒农药的区域。

在该技术方案中，每当对温室大棚进行灌溉、施肥和喷洒农药后，记录灌溉、施肥和喷洒农药的相关信息，以便于工作人员查看温室大棚的自动控制情况。

在上述任一技术方案中，优选地，所述获取所述温室大棚中植物的名称，具体包括：获取所述温室大棚的编号；根据所述温室大棚的编号获取所述温室大棚中植物的名称。

在该技术方案中，每个温室大棚都有一个编号，根据该编号获取温室大棚中植物的名称，避免了通过对植物拍照并进行图像识别的方式来识别出植物的名称，从而保证了植物名称获取的准确性和便捷性。

在上述任一技术方案中，优选地，还包括：存储所述生长参数；根据存储的所述生长参数，生成参数变化曲线。

在该技术方案中，通过生成植物的生长曲线，以便于种植工作人员查看植物的生长过程以及在每个过程下的生长状态，也便于种植工作人员追踪植物在种植过程中出现的问题。

本发明的第二方面提出了一种温室大棚的控制装置，用于服务器，所述温室大棚的控制装置包括：采集单元，用于采集温室大棚中植物的生长参数；获取单元，用于获取所述温室大棚中植物的名称，根据所述名称从云端数据库获取所述温室大棚中植物的最佳生长环境条件；检测单元，用于检测所述生长参数是否满足所述最佳生长环境条件；控制单元，用于若所述生长参数不满足所述最佳生长环境条件，则对所述温室大棚进行控制，直到所述生长参数满足所述最佳生长环境条件时为止。