[发明专利]过滤器系统的排放控制装置及带排放控制装置的过滤器系统

权利要求书

1.一种用于过滤器系统（10）的排放控制装置（500），用于过滤包括第一和第二介质（16、18）的介质流，带有具有介质出口且设置用于收集从介质流分离的第二介质（18）的收集腔室（20），包括具有至少第一和第二传感器单元（100、200）的传感器布置（300），其中，第一和第二传感器单元（100、200）构造用于检测收集腔室（20）中的第二介质的填充水平并基于不同的作用机制，其中，第一和第二传感器单元（100、200）与多个截止阀（92、94）联接，从而当达到排放标准时，自动排放第二介质（18）通过收集腔室（20）的介质出口（22）。

2.根据权利要求1所述的排放控制装置，其特征在于：第一和第二传感器单元（100、200）在公共传感器部件组中存在。

3.根据权利要求1所述的排放控制装置，其中，至少两个截止阀（92、94）串联流体连接。

4.根据权利要求1到3中任一项所述的排放控制装置，其中，每个传感器单元（100、200）具有与之相关的独立截止阀（92、94）。

5.根据权利要求3所述的排放控制装置，其中，传感器单元（200、100）中的一个设置用于直接控制截止阀（92、94）中的一个，传感器单元（200、100）中的另一个与截止阀（92、94）中的另一个相关。

6.根据权利要求5所述的排放控制装置，其中，传感器单元（100、200）中的另一个与控制装置（400）联接，所述控制装置（400）设置用于控制截止阀（92、94）中的另一个。

7.根据权利要求1到3中任一项所述的排放控制装置，其中，传感器单元（100、200）与设置用于控制截止阀（92、94）的控制装置（400）联接。

8.根据权利要求1或2所述的排放控制装置，其中，传感器单元（100、200）具有与之相关的公共截止阀（92、94）。

9.根据权利要求1到3中任一项所述的排放控制装置，其中，传感器布置（300）包括具有电阻传感器（50）的传感器单元（100、200），所述电阻传感器（50）检测容纳在收集腔室（20）中的介质（16、18）的电阻。

10.根据权利要求1到3中任一项所述的排放控制装置，其中，传感器布置（300）包括具有光学传感器（60）的传感器单元（100、200），所述光学传感器（60）检测渗入容纳在收集腔室（20）中的介质（16、18）的辐射强度。

11.根据权利要求1到3中任一项所述的排放控制装置，其中，传感器布置（300）包括具有磁场传感器（70）的传感器单元（100、200），所述磁场传感器（70）检测渗入容纳在收集腔室（20）中的介质（16、18）的磁场。

12.根据权利要求11所述的排放控制装置，其中，磁场传感器（70）包括簧片开关（73）。

13.根据权利要求12所述的排放控制装置，其中，簧片开关（73）与当第二介质（18）在收集腔室（20）中存在时上升的磁性漂浮体（71）相互作用。

14.根据权利要求12所述的排放控制装置，其中，簧片开关（73）布置在永磁场中，所述永磁场能够被当第二介质（18）在收集腔室（20）中存在时上升的漂浮体（71）屏蔽。

15.根据权利要求1到3中任一项所述的排放控制装置，其中，传感器布置（300）包括具有电容传感器的传感器单元（100、200）。