[发明专利]一种钛酸镁掺杂氧化铝微波介质陶瓷在审

专利信息
申请号: 201710292933.6 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN107129281A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 李蔚;胡家驹;刘会娇 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: C04B35/10 分类号: C04B35/10;C04B35/622
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 钛酸镁 掺杂 氧化铝 微波 介质 陶瓷
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种钛酸镁掺杂氧化铝陶瓷,是一种环境友好的低介电损耗微波介质材料,可用于微波通讯、电真空等领域。

背景技术

氧化铝陶瓷是一种重要的介质材料,不仅电绝缘性能好、介电损耗低、导热率高、耐高温和化学腐蚀,且价格低廉,工艺成熟,因此在电子、通信、电真空等领域应用广泛。但是,由于信息技术的高速发展,对介质材料的要求越来越高,氧化铝陶瓷的不足日益明显,其中最突出的就是介电损耗偏大,Q×f值偏低。为了减小氧化铝陶瓷的介电损耗,提高其Q×f值,最常见和有效的方法就是掺杂。比如,N.M.Alord等人通过在氧化铝陶瓷材料中添加0.5wt%氧化钛,使介电损耗大幅下降,Q×f值升至452790GHz。C.L.Huang等人采用高纯的纳米氧化铝粉体为原料并添加0.5wt%氧化钛,将Q×f值进一步提高至680000GHz(14GHz下)。在国内,张巨先通过在氧化铝陶瓷中掺入少量氧化镁,并利用二次烧结工艺,所获得材料Q×f值达950000GHz,达到蓝宝石的水平。不过,氧化镁、氧化钛掺杂虽然常见,但有一个缺点,就是镁离子(+2价)、钛离子(+4价)与铝离子(+3价)价态不同,当氧化镁或氧化钛掺杂固溶到氧化铝晶格中时,容易形成空位缺陷,导致介电损耗增加,性能不稳定。

发明内容

本发明目的在于提供一种钛酸镁掺杂氧化铝微波介质陶瓷,这种氧化铝微波介质陶瓷具有介电损耗较低的特点,同时掺杂物固溶过程中不容易产生空位缺陷。

为了实现上述发明目的,本发明采用的技术方案如下:以高纯氧化铝(Al2O3)粉体(>99.95%)作为原料,以钛酸镁(MgTiO3)作为掺杂物,湿法球磨混合后,再经干燥、研磨、过筛得到混合粉料。将所得粉料干压成型后,置于电炉中,升温至预定温度保温一定的时间, 冷却后就得到致密的钛酸镁掺杂氧化铝陶瓷样品。

上述技术方案的配方为:每100克氧化铝粉体原料中钛酸镁的掺杂量为0.2~0.4克。

上述技术方案的混合工艺参数为:球磨时间为24小时,球磨介质为去离子水和氧化锆球,料:水:球=1:2:3,球磨机转速为30-50转/分。

上述技术方案的干燥工艺参数为:干燥温度为100-150℃。

上述技术方案中的成型和烧结的工艺参数为:成型的压力为50~150MPa,烧结温度为1580-1620℃,保温时间为3-5小时, 升温速度为每分钟2-5度,烧结完成后自然冷却,即可得到致密的钛酸镁掺杂氧化铝陶瓷样品。

按上述方式制备的氧化铝陶瓷具有优良的微波介电性能。用Hakii- Coleman介质柱谐振法测量,其介电常数为9.99-10.05,Q × f值可达1878900-199550GHz(其中,当钛酸镁的掺杂量为0.3wt%时,最后所得的氧化铝陶瓷的Q × f值达到最高为199550GHz)。

和氧化镁或氧化钛等掺杂相比,钛酸镁掺杂时是一个+2价的镁离子和一个+4价的钛离子同时固溶入氧化铝晶格中,其平均价态是+3价,与铝离子价态相同,因此不容易形成空位缺陷,避免出现介电损耗增加和性能不稳定等问题。本发明工艺路线简单,生产流程短,设备要求较低,适合规模化生产。

附图说明

图1 是钛酸镁掺杂氧化铝陶瓷的Q × f 值随钛酸镁掺杂量的变化曲线。从图1可以看到,当每百克氧化铝量中钛酸镁掺杂量为的0.2-0.4克时,所得氧化铝陶瓷的Q × f值比较高,而当钛酸镁掺杂量过低或过高时,Q × f 值都会明显下降。

下面结合图1和具体实施方式对本发明作进一步的说明。

具体实施方式

实施例1:一种钛酸镁掺杂氧化铝陶瓷,它是通过以下方法制备而成的:称取高纯氧化铝粉体(>99.95%)100克和钛酸镁粉体0.1克作为原料,将二者加入球磨罐中,加去离子水和氧化锆磨球进行湿法球磨混合(料:水:球=1:2:3),球磨时间为24小时,球磨机转速为40转/分。之后将水抽滤掉,将混合料在120℃的烘箱中干燥、过筛,得到均匀的混合粉料。在混合粉料中加入适量粘结剂,在100MPa的压强下将粉末干压成直径约16mm、高度约12mm的柱状样品,置于硅钼棒电炉中1600℃下保温4小时。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东理工大学,未经华东理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710292933.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top