[发明专利]照明装置及照明方法和一种光刻机有效
申请号: | 201710288055.0 | 申请日: | 2017-04-27 |
公开(公告)号: | CN108803244B | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 田毅强 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 装置 方法 一种 光刻 | ||
1.一种照明装置,包括光源和匀光系统,所述匀光系统设置在所述光源的光轴上,所述光源出射的光束经过所述匀光系统成像在掩模上,其特征在于,所述光源包括LED阵列和光源控制器,所述光源控制器根据光瞳能量分布需求分别控制所述LED阵列中每个LED光源出射的光束与光源光轴的倾斜角度;其中,对于设定的光瞳能量分布需求,所述LED阵列中每个LED光源出射的光束与光源光轴的倾斜角度是同一时刻产生的。
2.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述光源还包括用于准直所述LED阵列出射光束的光束收集器阵列,所述LED阵列包括多个同类型的LED光源,所述光束收集器阵列包括多个光束收集器,一个所述光束收集器对应一个所述LED光源,所述LED光源与其对应的光束收集器固定为一个整体。
3.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述LED光源出射的光束的角分布为朗伯分布。
4.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述LED光源出射的光束的波长为365nm或248nm。
5.根据权利要求1所述的照明装置,其特征在于,所述匀光系统包括依次设置在所述光源光轴上的第一汇聚镜组、匀光单元和中继透镜组,所述第一汇聚镜组的物面位于所述光源的出光端,所述匀光单元的入光端位于所述第一汇聚镜组的像面,所述中继透镜组的物面位于所述匀光单元的出光端。
6.根据权利要求5所述的照明装置,其特征在于,所述第一汇聚镜组为定焦汇聚镜组或变焦汇聚镜组。
7.根据权利要求5所述的照明装置,其特征在于,所述匀光单元包括匀光器和第二汇聚镜组,所述匀光器位于所述第一汇聚镜组的像面,所述第二汇聚镜组的入瞳面位于所述匀光器的出光端,所述中继透镜组的物面位于所述第二汇聚镜组的像面。
8.根据权利要求7所述的照明装置,其特征在于,所述匀光器为微透镜阵列或积分棒。
9.根据权利要求5所述的照明装置,其特征在于,所述匀光系统还包括视场控制单元,所述视场控制单元包括可变视场光阑和可变视场光阑控制器,所述可变视场光阑位于所述匀光单元的出光端,所述可变视场光阑控制器控制所述可变视场光阑形成的视场大小。
10.一种照明方法,用于如权利要求1所述的照明装置中,其特征在于,步骤如下:根据光瞳能量分布需求,设定所述LED阵列中LED光源的数量,当所述光瞳能量分布需求为形成N极照明模式时,设定所述LED阵列中LED光源的数量至少为N个,分别控制所述LED阵列中每个所述LED光源出射的光束与光源光轴的倾斜角度,产生所需的光瞳形貌,光束经过所述匀光系统后成像在掩模上,完成离轴照明。
11.根据权利要求10所述的照明方法,其特征在于,在每个所述LED光源后设置光束收集器,准直所述LED光源的出射光。
12.根据权利要求10所述的照明方法,其特征在于,设定所述LED阵列包括四个LED光源,所述四个LED光源两两对称分布在X轴和Y轴上。
13.根据权利要求12所述的照明方法,其特征在于,控制每个所述LED光源出射的光束与光源光轴均不发生X向和Y向的倾斜,所述照明装置形成圆形光瞳照明模式。
14.根据权利要求12所述的照明方法,其特征在于,控制所述四个LED光源出射的光束分别绕Y轴发生两个角度的倾斜,所述照明装置形成X向二极照明模式。
15.根据权利要求12所述的照明方法,其特征在于,控制所述四个LED光源出射的光束分别绕X轴发生两个角度的倾斜,所述照明装置形成Y向二极照明模式。
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