[发明专利]石墨烯带太赫兹传感器有效
申请号: | 201710283429.X | 申请日: | 2017-04-26 |
公开(公告)号: | CN106960892B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 黄晓敏 | 申请(专利权)人: | 烟台小米机械技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/112 | 分类号: | H01L31/112;H01L31/028;H01L31/18 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 牟炳彦 |
地址: | 264006 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨 烯带太 赫兹 传感器 | ||
1.一种石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,包含:
硅基板,所述硅基板表面形成横向平行凹槽,所述凹槽的各个面上通过表面氧化形成一层氧化物层,在所述氧化物层的表面上形成金属层;
去除所述凹槽两端的金属层;
将石墨烯层转移到在硅基板表面上,通过金属辅助氧化将紧挨凹槽上表面的石墨烯氧化去除,形成石墨烯带;
在石墨烯层所在的去除了金属层的凹槽两端形成源极和漏极;
在硅基板的背面形成银层;
所述横向平行凹槽的上表面宽度与底表面宽度相同,所述横向平行凹槽的长度为宽度的6倍以上,所述石墨烯带的纵横比大于6。
2.如权利要求1所述的石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,所述氧化物层的厚度为表面凹槽深度的1/4-1/8。
3.如权利要求2所述的石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,所述金属层的金属为金、银或铜。
4.如权利要求1所述的石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,在硅基板的背面也形成周期性凹槽,用银填充硅基板背面的凹槽,并且填充完成后用同样的材料形成一层银层。
5.如权利要求1所述的石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,形成石墨烯带后还通过离子刻蚀方法去除所述横向平行凹槽和源漏极区域之外的石墨烯层。
6.如权利要求5所述的石墨烯带太赫兹传感器,所述横向平行凹槽的周期数大于5。
7.如权利要求6所述的石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,所述石墨烯层转移后完全覆盖所述横向平行凹槽。
8.如权利要求7所述的石墨烯带太赫兹传感器,其特征在于,所述源漏极形成位置紧靠所述横向平行凹槽的两端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于烟台小米机械技术有限公司,未经烟台小米机械技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710283429.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种反射膜及其应用
- 下一篇:一种光伏焊带复层制作机械
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的