[发明专利]激光活化剂及其制备方法、含激光活化剂的浆料及其制备方法和挠性电路板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201710282380.6 申请日: 2017-04-26
公开(公告)号: CN107201074B 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 张立书;阎涤;熊政军 申请(专利权)人: 镭射谷科技(深圳)股份有限公司
主分类号: C09D7/62 分类号: C09D7/62;C09D133/00;C09D163/00;C09D167/08;H05K3/02
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518000 广东省深圳市南山区高*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 激光 活化剂 及其 制备 方法 浆料 电路板
【说明书】:

发明提供了一种激光活化剂,包括活性主体和包覆在活性主体表面的环氧树脂,活性主体包括多孔云母颗粒以及填充在多孔云母颗粒孔洞中和/或负载在多孔云母颗粒表面的金属化合物,金属化合物包括金属氧化物和金属硫化物中的至少一种,金属化合物中的金属元素包括铜、铋、锡、锌、银、锑、锰、铁、镍和镁中的至少一种。激光活化剂中多孔云母颗粒性质较为稳定且含有多孔结构,可以很好地作为金属化合物的载体。后续在激光作用下,云母颗粒中的多孔结构可以更牢固的吸附金属单质以及促进化学镀液中金属离子的聚集。表面包覆的环氧树脂可以提高激光活化剂与主体树脂的相容性,提高涂层在基材上的附着力。本发明还提供了一种挠性电路板及其制备方法。

技术领域

本发明涉及电路板材料制备技术领域,具体涉及一种激光活化剂及其制备方法、含激光活化剂的浆料及其制备方法和挠性电路板的制备方法。

背景技术

挠性电路板(Flexible Printed Circuit,简称为软板或FPC)又称软性线路板、柔性印刷电路板,由于其具有配线密度高、重量轻、厚度薄的特点,被广泛使用在手机、笔记本电脑、掌上电脑(PDA)、数码相机、液晶显示器件(LCM)等诸多产品中。

传统的FPC制作工艺都是采用印刷腐蚀方法,方法具体为:在裁切好的挠性覆铜板上印刷光刻胶,然后曝光显影形成线路图,再在蚀刻药水中蚀刻掉非线路图形部分的铜箔形成FPC。该方法的工艺复杂流程长,成本高。因此,有必要提供一种工艺简单、成本较低的挠性电路板的制备方法。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供了一种挠性电路板的制备方法,该制备方法工艺简单,成本较低。

第一方面,本发明提供了一种激光活化剂,包括活性主体和包覆在所述活性主体表面的环氧树脂,所述活性主体包括多孔云母颗粒以及填充在所述多孔云母颗粒孔洞中和/或负载在所述多孔云母颗粒表面的金属化合物,所述金属化合物包括金属氧化物和金属硫化物中的至少一种,所述金属化合物中的金属元素包括铜、铋、锡、锌、银、锑、锰、铁、镍和镁中的至少一种。

其中,所述金属化合物与所述多孔云母颗粒的质量比为0.1~1:1。

其中,所述活性主体与所述环氧树脂的质量比为1:0.3~0.7。

其中,所述多孔云母颗粒的平均粒径为0.5μm~50μm,所述多孔云母颗粒的多孔孔径为0.1μm~10μm。

在本说明书中的平均粒径是指粒子的当量体积直径的平均粒径。

本发明第一方面提供的激光活化剂,该激光活化剂中的金属化合物填充在云母颗粒的孔洞中和/或负载在所述多孔云母颗粒的表面,激光活化剂中多孔云母颗粒性质较为稳定且含有多孔结构,可以很好地作为金属化合物的载体。后续在激光作用下,云母颗粒中的多孔结构可以更牢固的吸附金属单质以及促进化学镀液中金属离子的聚集。将环氧树脂包覆在活性主体的表面,可以提高无机物金属化合物后续与主体树脂的结合力,从而在基材上形成结合力较强的涂层。

第二方面,本发明提供了一种激光活化剂的制备方法,包括:

取多孔云母片为基底,采用物理气相沉积的方法在所述多孔云母片的孔洞中和/或表面沉积金属化合物,然后将沉积有金属化合物的多孔云母片进行粉碎,制得活性主体;所述活性主体包括多孔云母颗粒以及填充在所述多孔云母颗粒孔洞中和/或负载在所述多孔云母颗粒表面的金属化合物,所述金属化合物包括金属氧化物和金属硫化物中的至少一种,所述金属化合物中的金属元素包括铜、铋、锡、锌、银、锑、锰、铁、镍和镁中的至少一种;

将所述活性主体与环氧树脂进行球磨,使所述环氧树脂包覆在所述活性主体表面,干燥后,得到激光活化剂,所述激光活化剂包括活性主体和包覆在所述活性主体表面的环氧树脂,所述活性主体包括多孔云母颗粒以及填充在所述多孔云母颗粒孔洞中和/或负载在所述多孔云母颗粒表面的金属化合物。

其中,所述物理气相沉积方法的具体操作包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于镭射谷科技(深圳)股份有限公司,未经镭射谷科技(深圳)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710282380.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top