[发明专利]一种生产2‑氯‑4‑三氟甲基吡啶的方法在审
| 申请号: | 201710275658.7 | 申请日: | 2017-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN107151229A | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
| 发明(设计)人: | 杨少刚;司永利 | 申请(专利权)人: | 内蒙古佳瑞米精细化工有限公司 |
| 主分类号: | C07D213/61 | 分类号: | C07D213/61 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 016000 内蒙古*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 生产 甲基 吡啶 方法 | ||
技术领域
本发明涉及精细化工合成技术领域,具体涉及一种生产2-氯-4-三氟甲基吡啶的方法。
背景技术
2-氯-4-三氟甲基吡啶,分子式为C6H3ClF3N,分子量181.54,结构式如下式(1)。2-氯-4-三氟甲基吡啶是一种重要的农药中间体、医药中间体、化学试剂,其应用十分广泛,加之合成困难,一直无法实现工业化生产,市场价一直居高不下。因此,实现2-氯-4-三氟甲基吡啶的工业化生产,成为目前亟需解决的问题。
发明内容
为了克服现有技术中存在的不足之处,本发明的目的在于提供一种生产2-氯-4-三氟甲基吡啶的方法。
本发明所采用的技术方案是:
一种生产2-氯-4-三氟甲基吡啶的方法,该方法是以2-氨基-4-甲基吡啶为原料,依次进行重氮化、氯化和氟化反应过程获得2-氯-4-三氟甲基吡啶。该方法具体包括以下步骤:
(1)重氮化反应:以2-氨基-4-甲基吡啶为原料,2-氨基-4-甲基吡啶、亚硝酸钠和氯化氢在反应釜中经重氮化反应,获得2-氯-4-甲基吡啶;
该重氮化反应中,控制反应温度为-10℃~50℃。
该重氮化反应中,2-氨基-4-甲基吡啶、亚硝酸钠和氯化氢投料摩尔比例为1:(1~4):(1~4)。
(2)氯化反应:以步骤(1)得到的2-氯-4-甲基吡啶作为氯化反应的原料,在装有2-氯-4-甲基吡啶的反应釜中通入氯气进行氯化反应,经氯化反应得到主产物2-氯-4-三氯甲基吡啶和副产品氯化氢;
该氯化反应中,控制反应温度为100℃~200℃;氯化反应中,2-氯-4-甲基吡啶与氯气的摩尔比例为1:(5~20)。
(3)氟化反应:以步骤(2)得到的2-氯-4-三氯甲基吡啶作为氟化反应的原料,将其投入高压反应釜中,然后加入无水氟化氢进行氟化反应;反应后得到主产物2-氯-4-三氟甲基吡啶和副产品2-氟-4-三氟甲基吡啶。
该氟化反应中,控制反应温度为160℃~240℃,控制反应压力为2MPa~10MPa。
该氟化反应中,2-氯-4-三氯甲基吡啶与无水氟化氢的摩尔比例为1:(3~10)。
所得副产品2-氟-4-三氟甲基吡啶,可以再次经过重氮化反应,获得2-氯-4-三氟甲基吡啶。
与现有技术相比,本发明生产方法的有益效果如下:
1、本发明生产2-氯-4-三氟甲基吡啶时,仅需要重氮化、氯化、氟化这三个反应步骤,简化了生产流程,且使得产品的合成可以进行工业化生产,大大节省了成本,提高了产量和生产规模。
2、本发明第一步重氮化反应是以2-氨基-4-甲基吡啶为原料与亚硝酸钠和氯化氢在反应釜中反应,反应得到2-氯-4-甲基吡啶。第二步以2-氯-4-甲基吡啶为第二步氯化反应的原料在反应釜中通入氯气进行反应,反应得到主产物2-氯-4-三氯甲基吡啶和副产品氯化氢,副产品氯化氯可以回收利用;第三步以2-氯-4-三氯甲基吡啶为第三步氟化反应的原料在高压釜中反应,将物料投入反应釜中后加入无水氟化氢,反应后得到主产物2-氯-4-三氟甲基吡啶和副产品2-氟-4-三氟甲基吡啶,副产品2-氟-4-三氟甲基吡啶可以再次经过重氮化反应生成2-氯-4-三氟甲基吡啶。本发明方法副产品可以全部重复利用,成本低。
3、本发明方法制备的2-氯-4-三氟甲基吡啶纯度≥93%,收率≥95%。
附图说明
图1为实施例1制备的2-氯-4-三氟甲基吡啶的FID图。
具体实施方式
下面将通过具体实施例对本发明做进一步的具体描述,但不能理解为是对本发明保护范围的限定。
实施例1:
首先以2-氨基-4-甲基吡啶为原料投入100公斤反应釜中,再在反应釜中加入亚硝酸钠150公斤,之后持续通入氯化氢100公斤,反应温度调节在20℃下进行反应。反应生成初产后简蒸分离得到2-氯-4-甲基吡啶120公斤(含量98%)。待反应完成后准备进行第二步反应。
第二步反应为氯化反应。将第一步简蒸分离后的初产进入氯化反应釜进行氯化反应,持续通入氯气1吨。氯化反应控制釜温为180℃进行反应。反应控制2-氯-4-甲基吡啶和氯气摩尔比为1:5到1:20之间,本次反应投料比例控制在1:15下进行反应。反应初产进入初产接收罐,重量为230公斤(含量95%)。准备进行下步氟化反应。
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