[发明专利]触摸屏结构及其制作方法在审
| 申请号： | 201710273090.5 | 申请日： | 2017-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN108735916A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 刘胜芳;董晴晴;闵超;李雪原;张浩杰 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L27/32;H01L51/52;G06F3/041 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 封装层 触摸屏结构 第一电极 绝缘层 发光器件结构 第二电极 平坦化层 制作 柔韧性 厚度变薄 用户使用 触摸屏 透光性 顶层 暴露 | ||
1.一种触摸屏结构的制作方法，其特征在于，包括：
提供发光器件结构，所述发光器件结构的顶层为平坦化层；
在所述平坦化层上形成封装层，在所述封装层中形成有第一电极层且不暴露出所述第一电极层；以及
在所述封装层上形成第二电极层。
2.如权利要求1所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，提供发光器件结构，所述发光器件结构的顶层为平坦化层的步骤包括：
提供基底；
在所述基底上形成薄膜晶体管层；
在所述薄膜晶体管层上形成多个相间隔的发光结构；以及
在所述薄膜晶体管层上形成平坦化层，所述平坦化层覆盖所述发光结构。
3.如权利要求2所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，在所述平坦化层上形成封装层，在所述封装层中形成有第一电极层且不暴露出所述第一电极层的步骤包括：
在所述平坦化层上形成第一电极层，所述第一电极层被多个开口划分为多个部分，所述开口对应于所述发光结构；以及
在所述第一电极层上形成封装层，所述封装层覆盖所述第一电极层并填充所述多个开口。
4.如权利要求3所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，采用蒸镀工艺形成所述第一电极层。
5.如权利要求2所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，在所述平坦化层上形成封装层，在所述封装层中形成有第一电极层且不暴露出所述第一电极层的步骤包括：
在所述平坦化层上形成封装层第一部分；
在所述封装层第一部分上形成第一电极层，所述第一电极层被多个开口划分为多个部分，所述开口对应于所述发光结构；以及
在所述第一电极层上形成封装层第二部分，所述封装层第二部分覆盖所述第一电极层并填充所述多个开口,所述封装层第二部分与所述封装层第一部分共同形成所述封装层。
6.如权利要求1所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，所述封装层的材料为树脂、氧化物和氮化物中的至少一种。
7.如权利要求1所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，所述封装层的厚度为100nm-3μm。
8.如权利要求1所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，所述第一电极层和第二电极层的材料为金属，其电阻小于等于3Ω/□。
9.如权利要求1所述的触摸屏结构的制作方法，其特征在于，所述第一电极层和第二电极层的材料为ITO，其电阻小于等于200Ω/□。
10.一种触摸屏结构，其特征在于，包括：
封装层，所述封装层中形成有第一电极层且不暴露出所述第一电极层；以及
位于所述封装层上的第二电极层。
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