[发明专利]一种基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统

权利要求书

1.一种基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，包括沿光路依次布置的激光器和分束镜，由所述分束镜分束为两路激发光路，其特征在于，还包括：

沿第一激发光路依次布置的第一扫描振镜系统和第一显微物镜，由所述第一显微物镜将光束入射至样品的下表面并激发荧光；

沿第二激发光路依次布置的第二扫描振镜系统和第二显微物镜，由所述第二显微物镜将光束入射至样品的上表面并激发荧光；

用于收集两路荧光信号的成像光路模块；

和计算机，用于控制所述的第一扫描振镜系统和第二扫描振镜系统对样品进行扫描，并根据收集的两路荧光信号进行数据处理和图像重构。

2.如权利要求1所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，所述激光器与分束镜之间依次放置有单模光纤和起偏器。

3.如权利要求1所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，所述的第一扫描振镜系统和第二扫描振镜系统均为透射式4f透镜结构，用于控制显微物镜后瞳面处的光束入射角在0°、小于全反射临界角或大于全反射临界角范围内切换。

4.如权利要求1所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，所述的第一扫描振镜系统和第二扫描振镜系统其焦面位置处各放置有一个切向光偏振转换器，用于将入射线偏振光转换到切向偏振方向。

5.如权利要求1所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，所述的第一显微物镜和第二显微物镜均为全内反射式物镜，NA＝1.49。

6.如权利要求1-5任一项所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，利用计算机控制第一扫描振镜系统和第二扫描振镜系统，使得两束激发光从相反方向垂直入射样品，在样品轴向方向发生干涉，产生的荧光信号也分为两路收集，实现驻波干涉显微成像模式。

7.如权利要求1-5任一项所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，利用计算机控制第一扫描振镜系统和第二扫描振镜系统，使得两束激发光从待测样品两侧以小于全反射临界角入射，在样品同一位置处发生干涉，实现结构光照明显微成像模式。

8.如权利要求1-5任一项所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，利用计算机控制第一扫描振镜系统和第二扫描振镜系统，使得两束激发光从待测样品两侧以大于全反射临界角入射，分别在样品两侧以倏逝波激发荧光信号，实现多角度环状全内反射显微成像模式。

9.如权利要求1-5任一项所述的基于双振镜双物镜多模式宽场超分辨显微成像系统，其特征在于，所述的成像光路模块包括：

用于透过激发光、反射显微物镜收集的荧光的二向色镜；

用于滤去荧光信号中的杂散光的滤波片；

以及用于收集荧光信号的工业相机。