[发明专利]化学镀镍废水的处理方法和处理系统在审

专利信息
申请号: 201710265892.1 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN107098518A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 吉飞;陈昌铭;玉荣华;黄启镜 申请(专利权)人: 深圳市深投环保科技有限公司
主分类号: C02F9/08 分类号: C02F9/08
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司44334 代理人: 曹爱红
地址: 518057 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 化学 废水 处理 方法 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及含镍废水的处理,具体来说是一种化学镀镍废水的联合处理方法和处理系统。

背景技术

化学镀镍技术,以其独特的优越性被广泛应用。但是当化学镀镍溶液老化,成为化学镀镍废液时,废液中存在大量的镍离子、亚磷酸钠、次磷酸钠、pH缓冲剂及稳定剂等有机物。化镍废水不经处理就任意排放,势必会对环境造成严重的污染。因此,有效和并且规范地处理化学镀镍废液,减少对环境的污染和对生态的破坏,有着非常重要的意义。

目前,该废水的处理方法主要是电解法、离子交换法和沉淀法。电解法回收金属镍是在电解体系中,采用不溶性阳极,使金属镍离子在阴极上还原沉积、从而回收镍资源的过程。电解法在回收镍的同时,还能实现对废水中有机物的去除。但是,该方法对废水中磷的转化和去除没有明显效果。离子交换法是一种利用离子交换树脂来去除废液中的亚磷酸根离子或者回收镍的方法,此方法最重要的是离子交换树脂的使用离子交换树脂回收化学镀镍废液中的镍。当然离子交换法也存在不足,因为化学镀镍废液中亚磷酸根含量很高,要频繁的更换离子交换树脂,要花很长时间对离子交换树脂进行再生,实际操作太麻烦,且处理后的化学镀镍废液中还含有大量有机物。化学沉淀法是一种传统处理化学镀镍废液的方法,一般是将各种沉淀剂加入化学镀镍废液中,这些物质可以与废液中的亚磷酸根或镍离子反应形成沉淀,从而从废液中去除。但是,采用化学沉淀法对亚磷酸根去除不彻底。化学镀镍废液所含成分复杂,里面含有大量镍离子、次磷酸盐和亚磷酸盐、总磷、有机物等。基于以上原因,化学镀镍废液处理仅仅采用单一方法很难处理彻底。

芬顿氧化法可以将化镍废水中的亚磷、次磷有效氧化,但是对于有机物氧化能力有限。紫外光催化,理论上能深度处理镀镍废水。但是,由于亚磷、次磷会优先于COD氧化,会产生大量的磷酸铁沉淀,会在一定程度上影响紫外光的透过性,从而降低了对COD的处理效果。沉淀法可以有效去除重金属,但是对于有机物和磷没有效果。

发明内容

鉴于以上内容,有必要提供一种化学镀镍废水的处理方法,包括以下步骤:

将所述化学镀镍废水中加入硫酸亚铁,搅拌溶解,然后加入双氧水,进行芬顿氧化反应,反应1~4小时,进行压滤,去除所述化学镀镍废水中的磷;

经去除磷后的所述化学镀镍废水再加入所述双氧水,利用紫外光催化反应1~3小时,降解所述化学镀镍废水中的有机物;

经降解所述有机物后的所述化学镀镍废水进入搅拌反应釜中,加入碱调节PH值为6~8,再加入硫化物进行化学沉淀反应,压滤,除去所述化学镀镍废水中的镍。

进一步地,所述芬顿氧化反应和所述紫外光催化反应的反应温度均控制在30~80℃。

进一步地,所述芬顿氧化反应的PH值为3~6,所述硫酸亚铁与所述化学镀镍废水中磷的质量比为5~15,所述芬顿氧化反应中的所述双氧水与所述化学镀镍废水的质量比为4%~12%。

进一步地,在所述紫外光催化反应中,所述化学镀镍废水的PH值控制为3~5,所述紫外光催化反应中的所述双氧水与所述化学镀镍废水的质量比为2%~6%。

进一步地,所述碱选自石灰、片碱和液碱;所述硫化物为硫化钠,所述硫化钠的加入量是所述化学镀镍废水的质量的0.5%~2%。

本发明还提供一种化学镀镍废水的处理系统,包括芬顿氧化装置、光催化氧化装置和化学沉淀装置,

所述芬顿氧化装置用于将所述化学镀镍废水进行氧化反应,除去所述化学镀镍废水中的磷;

所述光催化氧化装置用于将所述除磷后的所述化学镀镍废水进行紫外光催化氧化反应,降解所述化学镀镍废水中的有机物;

所述化学沉淀装置用于将经所述紫外催化氧化反应后的所述化学镀镍废水进行化学沉淀反应,除去所述化学镀镍废水中的镍。

进一步地,所述芬顿氧化装置包括加药混合装置和反应器,双氧水和所述化学镀镍废水在所述加药混合装置进行混合,然后一起进入所述反应器中进行反应。

进一步地,还包括压滤装置,所述压滤装置用于过滤所述化学镀镍废水经所述芬顿氧化装置进行氧化反应后产生的沉淀。

进一步地,所述化学沉淀装置为一搅拌反应釜,所述搅拌反应釜包括搅拌装置、PH测量装置和液位控制装置,所述搅拌装置用于搅拌所述化学镀镍废水,所述PH测量装置用于测量所述化学镀镍废水的PH值,所述液位控制装置用于测量所述化学镀镍废水在所述搅拌反应釜中的液位。

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