[发明专利]有机互补型非门器件的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710259995.7 申请日: 2017-04-20
公开(公告)号: CN107104188A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 张文显 申请(专利权)人: 上海幂方电子科技有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L21/84
代理公司: 北京睿派知识产权代理事务所(普通合伙)11597 代理人: 刘锋
地址: 201612 上海市松江区上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 有机 互补 非门 器件 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种有机互补型非门器件的制备方法,其特征在于,包括:

形成一个柔性基底;

在所述柔性基底上打印形成第一导电层,作为所述有机互补型非门器件内部的N沟道OFET和P沟道OFET的共用栅极;

在所述第一导电层上打印形成电介质层;

在所述电介质层上打印形成第二导电层,作为所述N沟道OFET的源极、P沟道OFET的源极以及N沟道OFET和P沟道OFET的共用漏极,所述源极和共用漏极之间存在未覆盖所述电介质层的沟道;

相应的在所述沟道位置打印或者滴膜形成有机半导体层。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述柔性基底的材料是PEN薄膜。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第一导电层上打印形成电介质层包括:

在所述第一导电层上喷墨打印一层含聚合物和交联剂的墨水,经过加热处理形成所述电介质层。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述加热处理是在150℃的条件下持续30分钟,形成的电介质层厚度为2微米。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,相应的在所述沟道位置形成有机半导体层包括:

在所述N沟道OFET的沟道位置滴入第一活性层墨水,所述第一活性层墨水包括有机小分子材料和对应的有机溶剂;

在所述P沟道OFET的沟道位置滴入第二活性层墨水,所述第二活性层墨水包括有机聚合物材料和对应的有机溶剂;

经过室温干燥后,进行加热处理并退火。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述第一活性层墨水的有机小分子材料为NDI-DTYM2,浓度为2mg/mL;聚苯乙烯PS,浓度为4mg/mL,分子量为560K;有机溶剂为三甲苯;

所述第二活性层墨水的有机聚合物材料为DPPT-TT,浓度为2mg/mL;有机溶剂为二氯苯;

所述加热处理是在120℃条件下加热30分钟。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述柔性基底上形成第一导电层包括:

在所述柔性基底上喷墨打印一层银墨水,在150℃条件下加热10分钟,形成50nm厚的银电极;

在所述电介质层上形成第二导电层包括:

在电介质层上喷墨打印一层银墨水,在150℃条件下加热一小时,形成三个50nm厚的银电极。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在所述电介质层上形成的银电极之间的距离为50微米。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述沟道位置形成有机半导体层之前,所述方法还包括:

对所述第二导电层形成的电极进行溶液修饰。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,对所述第二导电层形成的电极进行溶液修饰包括:

利用含有PFBT的乙醇溶液对P沟道OFET的源极和漏极滴液修饰10分钟,所述PFBT的浓度为10mmol/mL;

利用含有十八烷基三氯硅烷(OTS)的乙醇溶液对N沟道OFET的源极和漏极滴液修饰10分钟,所述OTS的浓度为10mmol/L;

室温条件下干燥。

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