[发明专利]应用于长波红外波段的双层光栅偏振器在审
申请号: | 201710257139.8 | 申请日: | 2017-04-19 |
公开(公告)号: | CN106950635A | 公开(公告)日: | 2017-07-14 |
发明(设计)人: | 黄战华;马小青;蔡怀宇;张尹馨;朱攀;张亚男 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 | 代理人: | 刘国威 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 长波 红外 波段 双层 光栅 偏振 | ||
技术领域
本发明涉及偏振成像领域,尤其涉及一种双层结构的亚波长光栅,可应用于长波红外偏振成像系统中。具体讲,涉及应用于长波红外波段的双层光栅偏振器。
背景技术
随着探测与传感器技术的发展,红外探测仪器的精度和灵敏度有所提高,然而传统红外热像仪对先验信息的依赖性及小温差精准区分困难等测量短板大大限制了其适用性。光的偏振信息(偏振度、偏振方向、偏振椭率等)作为独立于振幅、相位、频率的光波信息,在导航、水面探测及模糊通信等方面具有独特的增补作用。红外偏振成像在红外热成像的基础上增加了偏振信息维度,能够增强对目标与干扰物或背景的材料、粗糙度、纹理等理化特性的区分,进而提高对伪装或隐蔽目标的探测能力。
偏振器作为偏振成像系统中的核心部件,性能优劣十分重要。近年来微光刻与微/纳米加工技术及计算机设计辅助功能的不断发展使衍射光学元件备受青睐,光学光刻与电子束光刻的功能配合能够实现亚波长纳米结构图形的制造。亚波长光栅偏振器具有集成度高、入射窗口大、损伤阈值高等特点,其偏振效应来源于光栅结构的各向异性,光栅区对光矢量的TE/TM模具有不同的等效折射率,这种差异使得TE/TM波的反射和透射效率呈现较大区别。
如图1可将光栅结构分成入射/反射区(z<0)、光栅区(0<z<h)和透射区(z>h)三个区域,在光栅区光矢量两个正交偏振分量TE/TM具有不同的膜层特性。入射光101使金属线栅105中电子沿着刻槽方向自由振荡,由于自由电子与金属晶格中的原子发生碰撞,电矢量平行于光栅刻槽方向的TE波发生强烈的衰减和辐射,主要以反射形式102出射;由于槽状介质104的阻隔效应,线栅105中的电子在垂直光栅刻槽方向上引发电流的能力减弱,TM波没有明显的衰减和辐射,主要以透射形式103出射。以上这两种出射形式102、103的差异表明:TE/TM偏振在光栅区分别具有金属膜和等效介质膜特性
最简单的线栅偏振器光栅区仅包含一排平行的金属线,有研究表明,在线栅105与基底106间镀抗反/增反膜的设计方式可以提高线栅偏振器性能。如图2D,一些科研人员提出通过在基底243和光栅线条241之间镀氟化镁薄膜242的方法,该方法使理论透射率和消光比有效提高,但面临两个难点:氟化镁242与玻璃基底243的结合牢固度较差;较厚的氟化镁镀层242加工工艺复杂。针对现有高性能偏振光栅制作工艺的难点,期望可以设计一种简化难度的光栅偏振器结构,使其在长波红外波段具备较高的TM透射率和偏振消光比。
发明内容
为克服现有技术的不足,有效降低宽长波红外波段高性能偏振光栅的制作难度,本发明旨在提出将亚波长金属栅线下的电介质基底层进行过度刻蚀的方式,在光栅区形成金属/电介质双层材料的结构。本发明采用的技术方案是,应用于长波红外波段的双层光栅偏振器,包括透明基底、与透明基底同材料的厚度一致且排布均匀的凸起线条、厚度一致且排布均匀的金属线条,所述与透明基底同材料的凸起线条与金属线条在空间位置上仅有一个维度的区别,一个维度指线条厚度方向;所述与透明基底同材料的凸起线条与金属线条均与光栅所处空间介质构成周期固定、占空固定的脊状和沟槽状形貌,光栅周期小于入射波长。
所述与透明基底同材料的凸起线条的厚度小于或等于2倍光栅线宽。
所述金属线条厚度小于或等于2倍线宽。
所述光栅周期小于或等于1.5μm;占空比大于等于0.3且小于等于0.7。
与透明基底同材料的线条及金属线条的剖面形貌均为矩形。
可选的,所述透明基底材料为在长波红外波段的整个波段或特定波段范围内具有一定透光率的红外光学材料,具体可是硒化锌、硫化锌、锗、氟化镁、氟化钡、氟化钙、溴碘化铊、氯化钠、溴化钾、石英。
可选的,所述金属线条材料为铝、金、银、铜。
本发明的特点及有益效果是:
1.本发明中的线栅偏振器在长波红外波段、大入射角度范围内(0~60°),TM偏振光透射率得到大幅度提高。
2.通过调节透明基底材料上光栅区凸起线条(包括金属线条与基底材料线条)的周期、占空比、金属线条的厚度、基底材料线条的厚度等参数可以获得高TM光透射率和高透射消光比,设计十分灵活。
附图说明:
图1为一维矩形金属光栅的结构图,图中光线展示了偏振性能产生的原理。
图2A为光栅金属层刻蚀不完全结构示意图。
图2B为光栅金属层完美刻蚀结构示意图。
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