[发明专利]电镀污水处理设备以及系统

权利要求书

1.一种电镀污水处理设备，其特征在于，包括：

第一反应室、第二反应室和加药装置，沿着所述第一反应室指向所述第二反应室的方向依次设置有高速反应器和固液分离槽；其中，

所述加药装置用于向处于所述第一反应室与所述固液分离槽之间的待处理电镀污水添加药剂；

所述第一反应室用于对待处理电镀污水进行预处理；

所述第二反应室用于对固液分离槽分离后的液体进行后处理，以满足中水回用。

2.根据权利要求1所述的电镀污水处理设备，其特征在于，所述高速反应器至少包括第一高速反应器和第二高速反应器，所述第一高速反应器和第二高速反应器的长度方向垂直于竖直方向且沿竖直方向排列设置。

3.根据权利要求2所述的电镀污水处理设备，其特征在于，所述加药装置至少包括三个加药器，分别用于向所述第一高速反应器、所述第二高速反应器和所述固液分离槽中添加药剂；所述加药装置还设置有用于控制药量的计量泵。

4.根据权利要求1所述的电镀污水处理设备，其特征在于，还包括：斜板和设置于所述固液分离槽的内壁上的安装支架，所述斜板设置于所述安装支架上，所述斜板上方设置有溢流沟。

5.根据权利要求4所述的电镀污水处理设备，其特征在于，所述第二反应室与所述固液分离槽之间设置有过滤网。

6.根据权利要求1所述的电镀污水处理设备，其特征在于，还包括：输液泵和迁移泵；其中，

所述输液泵设置于所述第一反应室与所述高速反应器之间，用于输送待处理电镀污水；

所述迁移泵与所述第二反应室相连接，用于将处理后的液体向外输送进行循环利用。

7.根据权利要求1所述的电镀污水处理设备，其特征在于，所述固液分离槽底部设置有沉淀池，所述沉淀池为“V”型。

8.根据权利要求1所述的电镀污水处理设备，其特征在于，所述固液分离槽内设置有用于分散污泥，使污泥流动的污泥圆盘分散缓冲器。

9.根据权利要求1所述的电镀污水处理设备，其特征在于，所述第一反应室和所述第二反应室分别设置有用于加速反应的搅拌槽和用于使反应更彻底的滞留槽；其中，

所述搅拌槽内设置有搅拌器；

所述滞留槽内设置有液位控制器。

10.一种电镀污水处理系统，其特征在于，包括：电控箱和权利要求1-9中任一项所述的电镀污水处理设备；其中，

所述电控箱包括主控器，所述主控器用于控制所述电镀污水处理设备运行，以实现全自动化操作。