[发明专利]富氢足浴盆

权利要求书

1.富氢足浴盆，包括足浴盆本体，所述足浴盆本体用于盛装液体，其特征在于，

还包括设于所述足浴盆本体中的制氢装置；

所述制氢装置包括电解容腔和设于所述电解容腔中的发光单元；

所述电解容腔为绝缘体，所述电解容腔上设有多个与外界连通的镂空。

2.根据权利要求1所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述制氢装置包括设于所述电解容腔中的电解阴极和电解阳极，制氢装置的电解液为水。

3.根据权利要求1所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述足浴盆本体包括外壳体和内壳体；

所述外壳体套设于所述内壳体外，所述内壳体上设有与所述外壳体的内腔连通的连通口；

所述制氢装置设于所述内壳体和所述外壳体之间。

4.根据权利要求3所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述电解容腔包括上盖和下盖，所述上盖设于所述内壳体内侧，所述下盖设于所述内壳体和所述外壳体之间。

5.根据权利要求4所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述内壳体上带有定位孔，所述上盖上带有螺纹孔，所述下盖上带有安装孔；

螺钉依次穿过所述安装孔、所述定位孔拧入所述螺纹孔中。

6.根据权利要求4所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述发光单元设于所述上盖和所述内壳体之间。

7.根据权利要求3所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述内壳体的底部设有多个凸起，所述内壳体的侧壁上设有按摩滚轮。

8.根据权利要求3所述的富氢足浴盆，其特征在于，所述外壳体外侧环设有发光单元。

9.根据权利要求1所述的富氢足浴盆，其特征在于，还包括控制器，所述控制器控制向所述制氢装置和所述发光单元供电。

10.根据权利要求9所述的富氢足浴盆，其特征在于，还包括与所述控制器电性连接的控制面板，所述控制面板设于所述足浴盆本体的表面；

所述控制面板控制所述控制器控制所述制氢装置和所述发光单元工作。