[发明专利]一种电子封装硅铝合金及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710247130.9 申请日: 2017-04-14
公开(公告)号: CN107058818A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 吴忠政 申请(专利权)人: 黄平县阳光科技发展有限公司
主分类号: C22C21/04 分类号: C22C21/04;C22C1/02;C22C1/06
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 钱学宇
地址: 556000 贵州省黔东南*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 电子 封装 铝合金 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,包括:

按照硅原料和铝原料的总质量与含磷变质剂的质量之比为100:1~5,将所述硅原料、所述铝原料和所述含磷变质剂混合均匀,得到混合物,在1000~1500℃的温度下,将所述混合物熔为熔体并充分变质后,精炼和沉积制成坯锭,将所述坯锭在800~1000℃的温度和120~140MPa的压力下热等静压处理1~2h后,压模制得。

2.根据权利要求1所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,所述含磷变质剂选自磷酸单脂和磷酸双脂的混合物。

3.根据权利要求2所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,所述磷酸单脂选自C1~10烷基磷酸单脂、环烷基磷酸单脂、杂环烷基磷酸单脂、芳基磷酸单脂和5~6元芳杂环基磷酸单脂中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,所述磷酸双脂选自C1~10烷基磷酸双脂、环烷基磷酸双脂、杂环烷基磷酸双脂、芳基磷酸双脂和5~6元芳杂环基磷酸双脂中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,精炼是在精炼剂存在环境下,将变质后的熔体在1100~1300℃的温度下除气精炼后进行扒渣。

6.根据权利要求1所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,所述沉积采用喷射沉积的方式进行。

7.根据权利要求6所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,所述喷射沉积的条件为:雾化压力为0.5~1MPa,雾化温度为1150~1450℃,沉积距离为600~700mm。

8.根据权利要求1所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,所述压模是将热等静压处理后坯锭在350℃~450℃的温度和50~100MPa的压力下进行。

9.根据权利要求1所述的电子元件封装外壳的制备方法,其特征在于,按照重量份数计,所述硅原料为30~60份,所述铝原料为40~70份。

10.一种电子元件封装外壳,其特征在于,根据权利要求1~9任一项所述的电子元件封装外壳的其制备方法制得。

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