[发明专利]一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种触控面板，包括基底和设置在所述基底上的触控电极，其特征在于，在所述触控电极的表面设置有光线处理结构，所述光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少所述触控电极表面对光线的反射。

2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述光线处理结构包括多个凸起部，多个所述凸起部均匀分布于所述触控电极的表面。

3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，任意相邻两个所述凸起部之间的间距范围为1nm～1μm。

4.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述凸起部的沿垂直于所述触控电极表面的截面形状包括三角形、矩形、梯形、半圆形、半椭圆形或规则或不规则多边形。

5.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述凸起部的材料包括氧化铟锡、金属材料或碳。

6.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控电极的表面为位于所述触控面板出光侧的所述触控电极表面；

或者，所述触控电极的表面为位于所述触控面板出光侧和入光侧的所述触控电极表面。

7.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控电极的分布形状为网格状；所述触控电极的材料包括金属材料，所述光线处理结构的材料与所述触控电极的材料相同。

8.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的触控面板。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为有机电致发光面板或液晶面板。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8-9任意一项所述的显示面板。

11.一种触控面板的制备方法，包括在基底上形成触控电极，其特征在于，所述形成触控电极包括：在所述触控电极的表面形成光线处理结构，所述光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少所述触控电极表面对光线的反射。

12.根据权利要求11所述的触控面板的制备方法，其特征在于，所述在所述触控电极的表面形成光线处理结构包括：

在采用构图工艺形成所述触控电极时，在刻蚀过程中对所述触控电极的表面进行刻蚀处理，以在所述触控电极的表面形成所述光线处理结构；

或者，首先通过打印法形成具有所述光线处理结构的膜层，然后将该具有所述光线处理结构的膜层压印到所述触控电极的表面。