[发明专利]一种精加工粉末静电喷涂方法在审
申请号: | 201710239931.0 | 申请日: | 2017-04-13 |
公开(公告)号: | CN107127121A | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
发明(设计)人: | 茆文斌 | 申请(专利权)人: | 天长市金陵电子有限责任公司 |
主分类号: | B05D1/06 | 分类号: | B05D1/06 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 | 代理人: | 段晓微,叶美琴 |
地址: | 239300 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 精加工 粉末 静电 喷涂 方法 | ||
技术领域
本发明涉及静电喷涂技术领域,尤其涉及一种精加工粉末静电喷涂方法。
背景技术
静电喷涂法是以接地的被涂物作为阳极,设备高压电栅作为阴极,静电喷枪接上负高压,在两极间形成高压静电场,阴极产生电晕放电,使喷出的涂料粒子带电,并进一步雾化,按同性相斥,异性相吸的原理,使带电的涂料粒子在静电场的作用下沿电力线方向吸附被涂物,放电后粘附在被涂物上的一种工艺方法。
目前,由于静电喷枪是直接受高压控制,操作时不便直接控制静电喷枪的喷涂情况,所以有时会出现涂料雾化效果较差,沉积率不高的缺陷。尤其是,当工件表面存在凹形结构时,较深或者豁口较窄的凹形结构,其表面往往难以附着粉末。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种精加工粉末静电喷涂方法。
本发明提出的一种精加工粉末静电喷涂方法,包括以下步骤:
S1、扫描待喷涂工件,建立三维工件模型;
S2、建立全封闭包覆工件模型的第一蒙层,第一蒙层上任意一段弧线,其中心点位于工件模型一侧,或者,其中心点位于远离工件模型的一侧但其弧心角小于90度;
S3、第一蒙层和工件模型之间形成至少一个腔室,针对每一个腔室,建立覆盖其内壁的第二蒙层,第二蒙层上任意一段弧线,其中心点位于腔室内且弧心角小于180度;
S4、将第一蒙层上可配合第二蒙层形成闭合空间的部分以对应的第二蒙层替代,第一蒙层和第二蒙层复合形成评估蒙层;
S5、评估蒙层与工件模型之间形成至少一个喷射腔,针对每一个喷射腔,建立喷射模型;
S6、根据喷射模型与评估蒙层的交界面确定喷粉入口,并根据喷射模型中心线确定喷粉入射方向;
S7、根据喷粉入口以及喷粉入射方向调整第一静电喷枪,向待喷涂工件喷粉。
优选地,还包括步骤S8、通过第二静电喷枪向待喷涂工件整体静电喷粉;第一静电喷枪的口径小于第二喷枪的口径。
优选地,第一静电喷枪的口径小于或等于第二喷枪的口径的十分之一。
优选地,第一静电喷枪的口径为第二喷枪的口径的百分之一。
优选地,步骤S1中,以红外光扫描待喷涂工件。
本发明中,通过第一蒙层,建立了一个包覆工件模型且整体教平滑的曲面,并且通过第一蒙层和工件模型复合,标出了工件上的腔室结构。通过通过建立第二蒙层,对工件表面的凹形结构进行评估;第二蒙层的限制条件,有利于将工件模型表面较深或者开口较窄的凹形结构的突出。通过将第一蒙层和第二蒙层复合形成评估蒙层,将工件上较深或者开口较窄的腔室结构标出。
本发明中,根据喷射模型确定喷粉入口和喷粉入射方向,有利于向工件表面较深或者开口较窄的腔室结构喷粉,解决了工件表面上较深或较窄的凹形结构不易附粉的问题。
本发明中,第一蒙层的限制方式,避免了第一蒙层上有较大的起伏,即避免第一蒙层上有较深或者开口较窄的腔室结构。
附图说明
图1为本发明提出的一种精加工粉末静电喷涂方法流程图。
具体实施方式
参照图1,本发明提出的一种精加工粉末静电喷涂方法,包括以下步骤。
S1、扫描待喷涂工件,建立三维工件模型。本实施方式中,以红外光扫描待喷涂工件。
S2、建立全封闭包覆工件模型的第一蒙层,第一蒙层上任意一段弧线,其中心点位于工件模型一侧,或者,其中心点位于远离工件模型的一侧但其弧心角小于90度。第一蒙层的限制方式,避免了第一蒙层上有较大的起伏,即避免第一蒙层上有较深或者开口较窄的腔室结构。
S3、第一蒙层和工件模型之间形成至少一个腔室,针对每一个腔室,建立覆盖其内壁的第二蒙层,第二蒙层上任意一段弧线,其中心点位于腔室内且弧心角小于180度。
本实施方式中,通过第一蒙层,建立了一个包覆工件模型且整体教平滑的曲面,并且通过第一蒙层和工件模型复合,标出了工件上的腔室结构。通过通过建立第二蒙层,对工件表面的凹形结构进行评估;第二蒙层的限制条件,有利于将工件模型表面较深或者开口较窄的凹形结构的突出。
S4、将第一蒙层上可配合第二蒙层形成闭合空间的部分以对应的第二蒙层替代,第一蒙层和第二蒙层复合形成评估蒙层。
本实施方式中通过将第一蒙层和第二蒙层复合形成评估蒙层,将工件上较深或者开口较窄的腔室结构标出。
S5、评估蒙层与工件模型之间形成至少一个喷射腔,针对每一个喷射腔,建立喷射模型。
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