[发明专利]一种静电喷涂增效方法在审

专利信息
申请号: 201710239592.6 申请日: 2017-04-13
公开(公告)号: CN107127120A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 茆文斌 申请(专利权)人: 天长市金陵电子有限责任公司
主分类号: B05D1/06 分类号: B05D1/06;B05B5/025;B05B13/02
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)34119 代理人: 段晓微,叶美琴
地址: 239300 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 静电 喷涂 增效 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及粉末喷涂技术领域,尤其涉及一种静电喷涂增效方法。

背景技术

静电喷涂法是表层处理工艺中最常用的一种工艺。目前,由于静电喷枪是直接受高压控制,操作时不便直接控制静电喷枪的喷涂情况,所以有时会出现涂料雾化效果较差,沉积率不高的缺陷。尤其是,当工件表面存在凹形结构时,较深或者豁口较窄的凹形结构,其表面往往难以附着粉末。

发明内容

基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种静电喷涂增效方法。

本发明提出的一种静电喷涂增效方法,包括以下步骤:

S1、扫描待喷涂工件,建立三维工件模型;

S2、建立全封闭包覆工件模型的第一蒙层,第一蒙层上任意一段弧线,其中心点位于工件模型一侧,或者,其中心点位于远离工件模型的一侧但其弧心角小于90度;

S3、第一蒙层和工件模型之间形成至少一个腔室,针对每一个腔室,建立覆盖其内壁的第二蒙层,第二蒙层上任意一段弧线,其中心点位于腔室内且弧心角小于180度;

S4、将第一蒙层上可配合第二蒙层形成闭合空间的部分以对应的第二蒙层替代,第一蒙层和第二蒙层复合形成评估蒙层;

S5、评估蒙层与工件模型之间形成至少一个评估腔,针对每一个评估腔,建立评估模型;

S6、判断评估模型与评估蒙层的交界面面积是否大于预设的豁口阈值;

S7、将评估模型与评估蒙层的交界面的中心线作为评估线,判断评估模型的中心线与评估线的夹角是否大于预设的夹角阈值;

S8、将交界面面积大于豁口阈值且中心线与评估线夹角大于夹角阈值的评估模型作为补充模型,沿着补充模型与工件模型的贴合面建立第三蒙层;

S9、将评估蒙层上可配合第三蒙层形成闭合空间的部分以第三蒙层替代,评估蒙层和第三蒙层复合形成分割蒙层;

S10、分割蒙层与工件模型之间形成至少一个喷射腔,针对每一个喷射腔,建立喷射模型;

S11、根据喷射模型与分割蒙层的交界面确定喷粉入口,并根据喷射模型中心线确定喷粉入射方向;

S12、根据喷粉入口以及喷粉入射方向调整第一静电喷枪,向待喷涂工件喷粉。

优选地,还包括步骤S13、通过第二静电喷枪向待喷涂工件整体静电喷粉;第一静电喷枪的口径小于第二喷枪的口径。

优选地,第一静电喷枪的口径为第二喷枪的口径的十分之一,或百分之一,或两数值之间的任意值。

优选地,豁口阈值大于第一喷枪枪口截面值。

优选地,夹角阈值为90度。

优选地,步骤S1中,以红外光扫描待喷涂工件。

本发明中,通过第一蒙层,建立了一个包覆工件模型且整体教平滑的曲面,并且通过第一蒙层和工件模型复合,标出了工件上的腔室结构。通过通过建立第二蒙层,对工件表面的凹形结构进行评估;第二蒙层的限制条件,有利于将工件模型表面较深或者开口较窄的凹形结构的突出。通过将第一蒙层和第二蒙层复合形成评估蒙层,将工件上较深或者开口较窄的腔室结构标出。

本发明中,通过步骤S5-S7,通过建立评估模型,对工件表面根据评估蒙层标出的腔室结构进行判断,通过评估模型与评估蒙层的交界面判断腔室结构的豁口大小,通过评估模型的中心线与评估线的夹角判断腔室结构是否相对于豁口偏向,从而,判断腔室结构在整体喷涂过程中的着粉难度。通过步骤S8和S9,将工件表面豁口大且内凹方向教正直的腔室补充到分割蒙层中,即补充到整体喷涂的责任区中。从而,进一步缩小了精细喷涂的责任区,有利于提高工作效率。

本发明中,根据喷射模型确定喷粉入口和喷粉入射方向,有利于向工件表面较深或者开口较窄的腔室结构喷粉,解决了工件表面上较深或较窄的凹形结构不易附粉的问题。且,第一静电喷枪擦用小口径喷枪,以便根据喷粉入口和喷粪入射方向进行定点喷射,提高工件表面凹形结构的喷粉精度。

附图说明

图1为本发明提出的一种静电喷涂增效方法流程图。

具体实施方式

参照图1,本发明提出的一种静电喷涂增效方法,包括以下步骤:

S1、扫描待喷涂工件,建立三维工件模型。具体的,以红外光扫描待喷涂工件,以保证扫描精度和效率。

S2、建立全封闭包覆工件模型的第一蒙层,第一蒙层上任意一段弧线,其中心点位于工件模型一侧,或者,其中心点位于远离工件模型的一侧但其弧心角小于90度。第一蒙层的限制方式,避免了第一蒙层上有较大的起伏,即避免第一蒙层上有较深或者开口较窄的腔室结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天长市金陵电子有限责任公司,未经天长市金陵电子有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710239592.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top