[发明专利]一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法有效

专利信息
申请号: 201710228753.1 申请日: 2017-04-10
公开(公告)号: CN106914155B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 周勇;余亚伟;高从堦 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B01D71/68 分类号: B01D71/68;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00;B01D61/00;C02F1/44;C02F101/12;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38
代理公司: 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 代理人: 朱枫
地址: 310014 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 氯甲基化 制备 电纳 滤膜 方法
【权利要求书】:

1.一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法,其特征在于包括以下步骤:

步骤(1):将氯甲基化聚砜放入质量分数为5%的三甲胺水溶液中,所述氯甲基化聚砜与三甲胺水溶液的投料质量比为1:10,在800-1500r/min的转速下磁力搅拌12-36h后,真空抽滤,除去多余的三甲胺水溶液,在25-45℃下真空烘干,制得荷正电聚砜;

步骤(2):取过量的步骤(1)制得的荷正电聚砜溶解于乙二醇甲醚中,在常温下以800-1500r/min的转速搅拌24小时充分溶解,真空抽滤后,取滤液,将滤液烘干测定滤液中荷正电聚砜的溶质含量;

步骤(3):取步骤(2)制得的滤液加入乙二醇甲醚中,配置成浓度不同的铸膜液,所述铸膜液以荷正电聚砜为溶质、质量分数为0.1%-0.9%,然后将铸膜液均匀涂覆在聚砜超滤底膜上,涂覆次数为1-3次,涂覆后静置5-15分钟使反应完全,再将多余的铸膜液移除,最后将膜放入烘箱中在30℃-40℃的温度范围内烘干,制得最终产品膜。

2.按照权利要求1所述的一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法,其特征在于,所述步骤(1)中磁力搅拌时间为24小时,真空烘干温度为35℃。

3.按照权利要求1所述的一种氯甲基化聚砜制备荷正电纳滤膜的方法,其特征在于,所述步骤(3)中,铸膜液的涂覆次数为2次,涂覆后的静置时间为10分钟。

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