[发明专利]用于金属层压的双轴取向的聚酯膜

权利要求书

1.一种多层双轴取向的聚酯膜，它包括基层B，外层A和外层C，其特征在于外层A是无定形的，基层B和外层C是结晶的，和其中基于该层内聚酯的质量,结晶基层B包括2至15wt％间苯二甲酸酯衍生的单元，和基于该层内聚酯的质量,无定形外层A包括大于19wt％间苯二甲酸酯衍生的单元,基层B的熔点低于250℃,在ATR光谱内，根据在1040cm^-1和1337cm^-1下谱带的强度比，测定各膜侧的结晶度，其中基于在1117cm^-1处的谱带，使强度标准化,在1040cm^-1处的谱带可归属于无定形聚酯；在1337cm^-1处的谱带可归属于结晶聚酯:

对于无定形层来说：

对于结晶层来说：

2.权利要求1的聚酯膜，其特征在于外层A具有硅烷基涂层。

3.权利要求1的聚酯膜，其特征在于基层B中的聚酯由至少85wt％对苯二甲酸乙二酯衍生的单元组成,在每一情况下基于聚酯的总质量。

4.权利要求1或2的聚酯膜，其特征在于基层B中的聚酯由3至10wt％的间苯二甲酸乙二酯衍生的单元组成。

5.权利要求1或2的聚酯膜，其特征在于对苯二甲酸乙二酯衍生的单元和间苯二甲酸乙二酯衍生的单元之和占聚酯的至少95wt％。

6.权利要求3的聚酯膜，其特征在于基层B中的聚酯由70至85wt％对苯二甲酸乙二酯衍生的单元和15至30wt％对苯二甲酸丁二酯衍生的单元，而不是间苯二甲酸酯衍生的单元和对苯二甲酸酯衍生的单元组成。

7.权利要求1或2的聚酯膜，其特征在于无定形外层A由至少19wt％间苯二甲酸乙二酯衍生的单元和最多81wt％对苯二甲酸乙二酯衍生的单元组成,在每一情况下基于外层A内聚酯的总质量。

8.权利要求1或2的聚酯膜，其特征在于外层C包括至少0.05wt％的惰性颗粒。

9.权利要求1或2的聚酯膜，其特征在于膜中的聚酯采用钛基催化剂生产。

10.权利要求1的聚酯膜，其特征在于膜包括50至10 000ppm的自由基清除剂，和外层C包括至少300ppm的自由基清除剂。

11.权利要求10的聚酯膜，其特征在于自由基清除剂选自CAS号为1709-70-2,3135-18-0,6683-19-8和57569-40-1的化合物中一种或多种。

12.权利要求1的聚酯膜，其特征在于外层(A)用官能硅烷涂布。

13.权利要求12的聚酯膜，其特征在于所述官能硅烷是在未水解状态下是下式化合物的氨基官能的硅烷：

(R¹)_aSi(R²)_b(R³)_c,

其中

R¹是具有至少一个伯氨基的不可水解的官能团，

R²是可水解的基团，

R³是非反应性的不可水解的基团；

a大于或等于1；

b大于或等于1；

c大于或等于0，和

a+b+c＝4。

14.权利要求13的聚酯膜，其特征在于所述R²是低级烷氧基，乙酰氧基或卤素基团基，

R³是低级烷基或苯基；

低级烷基或烷氧基是具有1至4个碳原子的那些，和

卤素基团是氟、氯、溴或碘。