[发明专利]用于良品率预测反馈的设备、系统和方法有效

专利信息
申请号: 201710224894.6 申请日: 2009-02-06
公开(公告)号: CN107479509B 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: 詹姆士·莫尼;尼古拉斯·沃德;理查德·斯塔福德 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;G06Q10/06;G06Q50/04
代理公司: 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国;赵静<国际申请>=<国际公布>=
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 设备 工程 系统 良品率 预测 反馈
【说明书】:

良品率预测由安排及分派控制器接收,其中该良品率预测有关于制造工具和产品。基于该良品率预测在路由算法中调整该制造工具的权重。计算成本‑利润分析,其确定在该制造工具上制造将来产品的成本和利润;以及基于该成本‑利润分析,决定是否在该制造工具上处理将来产品。

相关申请

本申请是申请号为200980107872.5的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明的实施例关于良品率预测,具体而言,关于执行响应良品率预测的自动动作。

背景技术

设备工程系统(EES)通过制造机器而管理产品的加工。良品率管理系统(YMS)利用参数及电气测试数据来分析良品率偏差(excursion)。在分析良品率时,某些传统YMS利用来自传统设备工程系统(EES)的故障检测和分类(FDC)系统的数据来向良品率工程师在分析良品率时提供附加数据。在有限数目个传统YMS中,来自FDC系统的数据用来预测良品率。此良品率预测可使良品率工程师在完成产品制造之前检测潜在的良品率问题。但是,在传统的制造环境下,没有向EES子系统提供预测良品率信息的机制。亦没有配备传统EES的子系统来执行响应良品率预测的自动动作。

发明内容

根据本发明的一方面,一种设备,包括:用于通过批次间控制器接收良品率预测的装置,所述批次间控制器包括指定过程性能目标的过程内批次间控制模块,其中所述良品率预测与制造工具、产品或过程中至少之一相关联;用于基于所述良品率预测,通过所述过程内批次间控制模块调整与过程内批次间控制相关联的第一参数的装置,其中所述第一参数包括过程配方的处理参数,其中所述批次间控制器包括指定不同过程之间的过程间性能目标的过程间批次间控制模块,其中所述良品率预测包括良品率预测质量值;以及用于基于所述良品率预测和所述良品率预测质量值的组合确定所述第一参数的调整的装置,其中调整程度随着所述良品率预测质量值减小而减小。

根据本发明的另一方面,一种设备工程系统,包括:计算装置,所述计算装置包括执行用于批次间控制器的指令的处理器,其中所述指令使所述处理器:接收来自良品率预测器的良品率偏差的指示,其中所述良品率偏差包括良品率预测质量值并且所述良品率偏差与制造工具、产品或者过程中的至少一者相关联;识别第一测量值与用于过程内批次间控制的过程性能目标之间的第一偏差,其中所述第一偏差影响所述良品率偏差;基于所识别的第一偏差调整与所述过程内批次间控制相关联的第一参数,其中所述第一参数包括过程配方的处理参数,其中所述批次间控制器包括指定不同过程之间的过程间性能目标的过程间批次间控制模块;以及基于所述良品率偏差和所述良品率预测质量值的组合确定所述第一参数的调整,其中调整程度随着所述良品率预测质量值减小而减小。

根据本发明的再一方面,一种方法,包括:通过批次间控制器接收良品率预测,所述批次间控制器包括指定过程性能目标的过程内批次间控制模块,其中所述良品率预测与制造工具、产品或过程中至少之一相关联;基于所述良品率预测,通过所述过程内批次间控制模块调整与过程内批次间控制相关联的第一参数,其中所述第一参数包括过程配方的处理参数,其中所述批次间控制器包括指定不同过程之间的过程间性能目标的过程间批次间控制模块,其中所述良品率预测包括良品率预测质量值;以及基于所述良品率预测和所述良品率预测质量值的组合确定所述第一参数的调整,其中调整程度随着所述良品率预测质量值减小而减小。

附图说明

通过在附图中以示例方式而非以限制方式来说明本发明,在附图中:

图1图示制造环境的示例架构,本发明的实施例可操作于其中;

图2图示另一制造环境的示例架构,本发明的实施例可操作于其中;

图3根据本发明的一个实施例,示出良品率预测器如何使用部分最小平方(PLS)的示例;

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