[发明专利]利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法有效

专利信息
申请号: 201710219363.8 申请日: 2017-04-06
公开(公告)号: CN106893059B 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 赵良传;徐旭;李裕琪;成竞祯;叶丞东;陆绍荣;韦春 申请(专利权)人: 桂林理工大学
主分类号: C08G18/10 分类号: C08G18/10;C08G18/42;C08G18/73;C08G18/38;C08G18/66;C08K9/04;C08K3/04
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地址: 541004 广西壮*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 利用 苝酐非 共价 修饰 石墨 制备 形状 记忆 聚合物 方法
【说明书】:

发明公开了一种利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法。将0.02克石墨烯加入到80毫升N‑甲基吡咯烷酮中,超声分散0.5~1h,再加入0.0037克醋酸锌、0.0392克3,4,9,10‑苝四甲酸二酐和0.0242克三羟甲基氨基甲烷,继续超声分散0.5~1h,然后在氮气氛下于180℃反应10~14h,待反应结束后,将反应液倒入无水乙醇中沉析出料,过滤,所得滤出物经真空干燥,即为苝酐非共价修饰石墨烯,然后将苝酐非共价修饰石墨烯与HDI和聚己内酯二元醇进行反应,制得形状记忆聚合物材料。本发明方法操作简单,尤其是苝酐非共价修饰石墨烯的制备过程非常简单,易于推广,并充分利用了苝酐和石墨烯性能上的协同增强效应,使制得的形状记忆聚合物材料具有优异的机械性能、形状记忆性能和热性能。

技术领域

本发明属于高分子材料改性技术领域,特别涉及一种利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法。

背景技术

石墨烯是由碳原子紧密堆积成的单层二维蜂窝状晶格结构的一种炭质新材料,具有超大的比表面积、π-π共轭结构,作为理想的二维晶体材料,石墨烯表现出诸多优异的性能,其化学性质稳定、力学强度高、电学和热学性质优良等。石墨烯这些独特的性能,使其在传感设备、复合材料、能量存储设备、电子设备等领域有着广阔的应用前景。研究发现,其杨氏模量为1100GPa,断裂强度达到130GPa,远远高于钢铁的强度,被认为是目前世界上最薄、最硬的纳米材料。但由于石墨烯比表面积大,容易发生堆叠,所以在聚合物基体中石墨烯分散性能较差。通过对石墨烯进行表面修饰和功能化,提高石墨烯的可控性,增强石墨烯纳米片与聚合物基体之间的相互作用,进一步扩展石墨烯的应用范围。

苝酐由于具有刚性较强的苝环结构,所以具有良好的耐热、耐日晒、耐化学稳定性,用其对石墨烯进行表面修饰改性,可以拓宽石墨烯的应用领域,例如能够用于制备综合性能优异的形状记忆聚合物材料,在形状记忆聚合物材料中起到硬段作用,或者用作填料来制备环氧树脂基复合材料,提高复合材料的耐热性、导热性及机械性能。

本发明以苝酐为主要原料,采用简单的工艺对石墨烯进行非共价修饰,制得苝酐非共价修饰石墨烯,接着将其用于高性能形状记忆聚合物的制备,充分利用了苝酐和石墨烯性能上的协同效应,同时拓宽了苝酐和石墨烯的应用领域。本思路未见文献报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法。

具体步骤为:

(1)将0.02克石墨烯加入到80毫升N-甲基吡咯烷酮中,超声分散0.5~1h,再加入0.0037克醋酸锌、0.0392克3,4,9,10-苝四甲酸二酐和0.0242克三羟甲基氨基甲烷,继续超声分散0.5~1h,然后在氮气氛下于180℃反应10~14h,待反应结束后,将反应液倒入无水乙醇中沉析出料,过滤,所得滤出物经真空干燥,得到紫黑色产物,即为苝酐非共价修饰石墨烯。

(2)将4.0g重均分子量为1000的聚己内酯二元醇放入圆底烧瓶中,在氮气氛下加热至80℃并磁力搅拌直至融化,然后加入20 ml N,N-二甲基甲酰胺和0.2 ml二月桂酸二丁基锡,将混合物加热至105℃保温20 min除水,再降温至80℃,加入1.0 ml六亚甲基二异氰酸酯,于80℃下反应5h,制得含有端异氰酸酯聚氨酯预聚体的混合液。

(3)将0.07g步骤(1)制得的苝酐非共价修饰石墨烯加入到25ml N,N-二甲基甲酰胺中,超声分散1h,制得苝酐非共价修饰石墨烯分散液。

(4)将步骤(3)制得的苝酐非共价修饰石墨烯分散液加入到步骤(2)制得的含有端异氰酸酯聚氨酯预聚体的混合液中,在氮气氛中于80℃下搅拌反应14小时,然后一起倒入60℃下预热过的模具中,在80℃下加热固化16h,即制得形状记忆聚合物材料。

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