[发明专利]反应腔室

权利要求书

1.一种反应腔室，包括由下而上依次设置的腔体、调整支架和介质窗，其中，在所述调整支架的上表面与所述介质窗的下表面之间具有第一间隙，且在所述第一间隙中设置有第一密封圈；在所述调整支架的下表面与所述腔体的上表面之间具有第二间隙，且在所述第二间隙中设置有第二密封圈，其特征在于，还包括上保护环和下保护环，其中，

所述上保护环安装在所述调整支架内侧，且在所述上保护环与所述介质窗相对的两个表面之间形成第三间隙，用以延长所述第一间隙与所述腔体的内部空间之间的距离；

所述下保护环安装在所述腔体的内侧，且在所述下保护环与所述调整支架相对的两个表面之间形成第四间隙，用以延长所述第二间隙与所述腔体的内部空间之间的距离。

2.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述上保护环包括第一环体，在所述第一环体的顶部设置有相对于所述第一环体的外周壁水平凸出的第一环形凸部，所述第一环形凸部与所述介质窗相对的两个表面之间形成所述第三间隙；

在所述调整支架的内周壁形成有第一支撑台阶，所述第一环形凸部相对于所述第一环体的外环壁凸出的部分叠置在所述第一支撑台阶上。

3.根据权利要求2所述的反应腔室，其特征在于，在所述第一环体的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间，以及在所述第一环形凸部的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间均具有竖直间隙。

4.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述上保护环包括第一环体，在所述第一环体的顶部设置有相对于所述第一环体的外周壁水平凸出的第一环形凸部；

所述第一环形凸部相对于所述第一环体的外环壁凸出的部分叠置在所述调整支架的上表面上，且在所述介质窗的下表面形成有第一凹槽，用以容纳所述第一环形凸部；所述第一环形凸部与所述第一凹槽相对的两个表面之间形成所述第三间隙。

5.根据权利要求4所述的反应腔室，其特征在于，在所述第一环体的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间具有竖直间隙。

6.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述上保护环包括第一环体，在所述第一环体的顶部设置有第一环形凸部和位于其上方的第二环形凸部；

在所述调整支架的内侧表面形成有第一支撑台阶，所述第一环形凸部相对于所述第一环体的外环壁凸出的部分叠置在所述第一支撑台阶的上表面上；并且，在所述介质窗的下表面形成有第一凹槽，用以容纳所述第二环形凸部，所述第二环形凸部与所述第一凹槽相对的两个表面之间形成所述第三间隙。

7.根据权利要求6所述的反应腔室，其特征在于，在所述第一环体的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间以及在所述第一环形凸部的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间均具有竖直间隙。

8.根据权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述上保护环包括第一环体和第二环体，其中，

在所述第一环体的顶部设置有相对于所述第一环体的外周壁水平凸出的第一环形凸部；在所述调整支架的内周壁形成有第一支撑台阶，所述第一环形凸部相对于所述第一环体的外环壁凸出的部分叠置在所述第一支撑台阶上；

在所述第二环体的顶部设置有相对于所述第二环体的外周壁水平凸出的第二环形凸部；所述第二环形凸部相对于所述第二环体的外环壁凸出的部分叠置在所述第一环形凸部上；并且，在所述介质窗的下表面形成有第一凹槽，用以容纳所述第二环形凸部；所述第二环形凸部与所述第一凹槽相对的两个表面之间形成所述第三间隙。

9.根据权利要求8所述的反应腔室，其特征在于，在所述第一环体的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间，在所述第一环形凸部的外周壁和与之相对的所述调整支架的内侧表面之间以及在所述第二环体的外周壁和所述第一环体的内周壁之间均具有竖直间隙。

10.根据权利要求1或2或4或6或8所述的反应腔室，其特征在于，所述第三间隙的宽度为0.2～1mm。