[发明专利]表膜

说明书

本发明涉及一种表膜。[课题]目的在于提供：FPD用途中使用分辨率2.0μm及以下的曝光机时使用的面积1000cm²以上的表膜，其为对图案尺寸精度造成的影响少、被转印的图案中不产生不良情况的表膜。[解决手段]一种表膜，其包含：具备面积1000cm²以上的俯视矩形的开口部的表膜用框体；位于该表膜用框体的一个端面的以覆盖前述开口部的方式张开而得到支撑的表膜用膜；以及位于前述表膜用框体的另一个端面的掩模粘合剂，前述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且3.0μm以下，前述表膜用膜面内的膜厚波动为80nm以下。

技术领域

本发明涉及表膜。

背景技术

以往，半导体电路图案等的制造中，一般进行如下操作：使用被称为表膜的防尘手段来防止异物附着于光掩模、标线上。表膜如下：例如在具有与光掩模或标线的形状吻合的形状的厚度数毫米左右的框体的上缘面上，将厚度10μm以下的硝化纤维素或纤维素衍生物或氟聚合物等的透明的高分子膜(以下，称为“表膜用膜”)张开并粘接，且在该框体的下缘面上涂覆粘合剂，并且在该粘合剂上以规定的粘接力粘合保护膜，从而得到。

上述粘合剂用于使表膜固着于光掩模或标线，另外，保护膜保护该粘合剂的粘接面，用来维持该粘合剂的粘接力直至该粘合剂被供以使用。

这样的表膜一般从制造表膜的制造商供给至制造光掩模或标线的制造商，在此将表膜粘贴于光掩模或标线后，供给至半导体制造商、面板制造商等进行光刻的制造商。

作为表膜用膜，与用于曝光的光源相对应地，选择并使用最佳的材料。例如，KrF激光(248nm)以下的短波长的情况下，使用了具有充分的透射率和耐光性的氟系树脂。

另一方面，FPD用时，作为光源，一般使用高压汞灯、超高压汞灯，由于使用240nm～600nm的宽频带的波长，因此使用有硝化纤维素、乙基纤维素、丙酸纤维素等纤维素系树脂、环烯烃树脂、氟系树脂、聚乙烯醇缩醛树脂等。

另外，半导体用途中也存在使用gi射线等长波长的曝光，上述情况下，除氟系之外也已经使用有纤维素系树脂、环烯烃系树脂、聚乙烯醇缩醛树脂等(例如参照专利文献1～3)。

FPD中，出于提高生产率的目的，存在线宽更细的电路的期望，逐渐要求高的曝光波长，开发了与其相对应的大型表膜用膜(例如参照专利文献4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平04-081854号公报

专利文献2：日本特开平01-133052号公报

专利文献3：日本特开平07-199451号公报

专利文献4：日本特开2012-212043号公报

发明内容

发明要解决的问题

对于以往的FPD的曝光波长，不怎么需要分辨率的图案多，因此如果在宽频带下平均透射率为90％以上，则可以没有问题地使用表膜用膜。然而近年来，FPD的世界中，对于以智能手机为代表的、最先进的高功能移动设备用途、高精细有机EL面板和液晶面板用途，开发了致力于高分辨率/高精度对准的曝光装置。

因此，等倍投影曝光中有如下动向：想要使用i射线单波长或i射线、g射线、j射线等特定波长的混合波长(以下，称为“特定混合波长”)来绘制更高分辨率的电路。此时，为了减小被称为图案尺寸精度(CD)的掩模图案与设计图案的几何学形状误差，曝光机制造商、掩模制造商对曝光机、掩模花费了各种工夫。

半导体用途中已经使用了gi射线波长等，如专利文献1～3那样，作为能够与g射线、i射线任意者共用的表膜，通过设计膜厚，从而提高透射率，提供没有问题的表膜。