[发明专利]一种黑磷光调制器及其制备方法

权利要求书

1.一种黑磷光调制器，其特征在于，包括黑磷光调制器本体、槽型玻片和盖玻片，所述槽型玻片包括一凹槽，所述黑磷光调制器本体容置在所述凹槽中，所述盖玻片覆盖所述槽型玻片以密封所述凹槽。

2.如权利要求1所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述黑磷光调制器本体包括第一电极、第二电极、衬底、绝缘层和黑磷层，所述衬底、所述绝缘层和所述黑磷层依次层叠设置在所述凹槽中，所述黑磷层和所述绝缘层包括向相反方向延伸的延伸端，所述黑磷层的延伸端上设有所述第一电极，所述绝缘层的延伸端上设有所述第二电极。

3.如权利要求1所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述黑磷光调制器本体包括第一电极、第二电极、衬底、绝缘层、第一黑磷层、电容层和第二黑磷层，所述第一黑磷层和所述第二黑磷层之间通过所述电容层隔离，所述衬底、所述绝缘层、所述第一黑磷层、所述电容层和第二黑磷层依次层叠设置在所述凹槽中，所述第一黑磷和所述第二黑磷层包括向相反方向延伸的延伸端，所述第一黑磷层的延伸端上设有所述第一电极，所述第二黑磷层的延伸端上设有所述第二电极。

4.如权利要求2或3所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述槽型玻片的侧面设有两个通孔，所述第一电极和所述第二电极分别通过所述两个通孔局部暴露在空气中。

5.如权利要求2或3所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述黑磷层的厚度为0.7nm-3nm，所述第一黑磷层的厚度为0.7nm-3nm，所述第二黑磷层的厚度为0.7nm-3nm。

6.如权利要求1所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述凹槽的深度为30nm-100nm。

7.如权利要求1所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述盖玻片和所述槽型玻片的材质包括石英玻璃。

8.如权利要求1所述的黑磷光调制器，其特征在于，所述黑磷光调制器的长度为300nm-500nm。

9.一种黑磷光调制器的制备方法，其特征在于，包括：

提供槽型玻片和黑磷光调制器本体，所述槽型玻片包括一凹槽以及与所述凹槽邻接的上表面，在所述凹槽中容置所述黑磷调制器本体；

提供盖玻片，在所述槽型玻片的所述上表面或所述盖玻片表面涂覆无影胶，将所述盖玻片覆盖所述上表面以密封所述凹槽，固化后，得到黑磷光调制器。

10.如权利要求9所述的黑磷光调制器的制备方法，其特征在于，所述固化的操作包括：先固化6s-10s，然后去除多余的无影胶，再固化完全，得到所述黑磷光调制器。