[发明专利]基底台系统、光刻设备和光刻方法

说明书

本发明提供一种基底台系统、光刻设备和光刻方法，基地台系统中的工件台系统包括一基底曝光工位，位于光刻机的曝光区域；一转接台，位于所述基底曝光工位的一侧；至少两个微动台，用于承载基底；一粗动台，用于带动所述微动台在所述基底曝光工位上移动；当一个微动台位于所述转接台上进行基底交接时，所述粗动台带动另一个微动台移动至所述基底曝光工位上，使得位于该微动台上的基底曝光。则本发明提供的工件台系统中仅需在基底曝光工位一侧设置用于放置转接台以及一个微动台的空间，因此相对于现有技术，本发明提供的工件台系统并未占用较大的空间，节省了占地成本。

技术领域

本发明涉及半导体光刻领域，特别涉及一种基底台系统、光刻设备和光刻方法。

背景技术

工件台系统是光刻机中的核心系统，其工作效率直接影响到光刻机的产率。目前影响工件台工作效率的制约因素有驱动执行器的运动速度、工件台的工作流程以及工件台中硅片台的数量等。驱动执行器运动速度受限于其自身发热，因此需要对其进行冷却，而目前冷却方式的冷却效率暂时无法保证驱动执行器在大功耗下的自身热耗；在工件台工作流程无法有明显改善的情况下，增加用于放置硅片的工件台的数量对工件台系统的工作效率的提高有明显效果，通过增加工件台数量，统筹工作流程，将原来串行的工作流程，通过两个或者多个工件台并行完成，从而提高光刻机整机的产率。

目前，已有ASML提出了双曝光台的工件台系统，并已投入生产。其工作原理是工件台分为两个区域，一个区域进行曝光工作，另一个区域进行硅片传输及测量、对准工作。目前，双曝光台的工件台采用动线圈形式，其动子线圈和定子磁钢阵列在制造上均具有一定复杂度，并且动线圈的形式会给动子增加额外的电气线缆及水管数量，增加拖链对曝光台的扰动。同时，上述结构中，若干个工件台可能并列排布，因此整个工件台系统占用的空间尺寸较大，增加了系统的复杂程度，不利于光刻实验室或者厂房的设计，占地成本增大。

发明内容

本发明提出了一种基底台系统、光刻设备和光刻方法，用于解决工件台系统占用空间尺寸大的问题。

为达到上述目的，本发明提供一种基底台系统，所述基底台系统包括基底曝光工位、基底传输工位和基底测量工位，所述基底台系统还包括：

至少两个微动台，用于承载基底轮流在所述基底传输工位、所述基底测量工位和所述基底曝光工位完成工序；

一转接台，包括所述基底传输工位和所述基底测量工位，任一所述微动台可在所述转接台上移动以完成基底传输和基底测量；

一粗动台，任一所述微动台可在所述转接台与所述粗动台之间进行交换，以完成在所述基底曝光工位与所述基底传输工位间的移动和/或在所述基底测量工位与所述基底曝光工位间的移动。

作为优选，所述基底曝光工位包括工件台本体。3.如权利要求2所述的基底台系统，其特征在于，还包括驱动装置，固定在所述粗动台和所述微动台以及所述工件台本体上，用于驱动所述粗动台和任一所述微动台。

作为优选，所述驱动装置为驱动电机。

作为优选，用于驱动所述微动台的所述驱动装置，包括固定在所述微动台下方的微动台磁钢阵列和/或固定在所述粗动台顶部的印制电路板线圈。

作为优选，用于驱动所述粗动台的所述驱动装置，包括固定在所述粗动台下方的粗动台底部磁钢阵列和/或位于所述工件台本体顶部的印制电路板线圈。

作为优选，所述粗动台和/或所述微动台底部固定有霍尔传感器阵列。

作为优选，所述粗动台和所述微动台上皆安装有传感器，用于使所述微动台跟随所述粗动台运动。

作为优选，所述粗动台侧边安装有若干个差分传感器，所述微动台上安装有零位传感器。

作为优选，还设置边缘对接机构，所述边缘对接机构固定在所述粗动台上，用于与所述转接台对接。