[发明专利]量子点发光二极管显示面板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，尤其涉及一种量子点发光二极管显示面板及其制备方法，还涉及包含该显示面板的显示装置。

背景技术

OLED(有机电致发光二极管)显示装置具有自发光、广视角、发光效率高、功耗低、响应时间快、低温特性好、制造工艺简单、成本低等特性。柔性OLED显示装置以其重量轻、可弯曲、便于携带的优点，给可穿戴式设备的应用带来深远的影响，未来柔性OLED显示装置将随着个人智能终端的不断渗透而得到更加广泛的应用。

OLED显示装置的核心部件是OLED显示面板，OLED显示面板的结构通常包括：TFT阵列基板以及依次制作于TFT基板上的阳极层、像素定义层、第一公共层、发光层、第二公共层以及阴极层。OLED显示面板的工作原理是在阳极和阴极之间电场的作用下，空穴通过第一公共层传输到发光层，电子通过第二公共层传输到发光层，空穴和电子在发光层之内复合进而发光。OLED显示面板通常是由R、G、B三原色的混合来实现不同色彩的显示效果，因此OLED显示面板的一个像素通常包含R、G、B三个发光单元，通常地，每一个像素的R、G、B三个发光单元能够通过驱动电路单独控制。

随着显示面板分辨率的提高，单位面积内发光单元的个数也在不断增加，导致发光单元之间的间隔距离不断减小，OLED显示面板的制备工艺也碰到了一些难题。例如，OLED像素结构的发光单元制备过程中，一般采用FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩膜版)蒸镀工艺，其存在两个不足：1、蒸镀中大量的发光材料利用率低，增加成本；2、目前采用FMM蒸镀工艺所能达到的最高分辨率为500PPI左右，若想进一步提高OLED像素密度，必须提高FMM蒸镀的对位精度，并且由于像素间距减小而导致蒸镀工艺中极易出现混色的问题。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种量子点发光二极管显示面板，以降低显示面板的制备工艺难度以及提高显示面板的分辨率。

为了达到上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种量子点发光二极管显示面板，包括TFT阵列基板以及阵列设置在该TFT阵列基板上的多个像素结构，其中，所述像素结构包括按照远离所述TFT阵列基板的方向依次叠层设置的第一电极、空穴传输功能层、量子点发光层、电子传输功能层和第二电极；所述量子点发光层包括有机溶剂材料和分散在所述有机溶剂材料中的量子点材料，所述量子点材料在电致激发的条件下发光。

其中，所述像素结构被设置为红色子像素、绿色子像素或蓝色子像素，所述红色子像素的量子点发光层中设置有发出红色单色光的量子点材料，所述绿色子像素的量子点发光层中设置有发出绿色单色光的量子点材料，所述蓝色子像素的量子点发光层中设置有发出蓝色单色光的量子点材料。

其中，所述像素结构还被设置为白色子像素，所述白子像素的量子点发光层中设置有发出红色单色光、绿色单色光以及蓝色单色光的量子点材料。

其中，所述量子点材料选自CdS、CdSe、CdTe、ZnS和ZnSe中的一种或多种。

其中，所述第二电极的材料为ITO、AZO或FTO。

其中，多个像素结构的所有第二电极相互连接形成一体。

其中，所述第二电极上还设置有无机薄膜保护层。

本发明还提供了如上所述的量子点发光二极管显示面板的制备方法，其包括：提供TFT阵列基板并在TFT阵列基板上制备阵列分布的多个第一电极；在所述TFT阵列基板上制备像素定义层；应用黄光刻蚀工艺，在所述像素定义层中刻蚀出子像素区域；在所述子像素区域制备形成像素结构；其中，所述像素结构中的量子点发光层通过涂布工艺制备获得。

其中，所述子像素区域制备形成像素结构的步骤具体包括：在所述子像素区域中位于第一电极上蒸镀沉积形成空穴传输功能层；应用涂布工艺在所述空穴传输功能层上涂布形成量子点发光层；在所述量子点发光层上依次蒸镀沉积形成电子传输功能层和第二电极。