[发明专利]照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法

说明书

本发明提供照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。该照射装置执行倾斜照射并且包括：第一光学元件，其由多个光学部件的阵列形成，各个光学部件被构造为产生点光源；以及第二光学元件，其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域，所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。

技术领域

本发明涉及照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。

背景技术

对于半导体器件、MEMS等的小型化的需求不断增加。因此，除了传统的光刻技术之外，通过使用模具对基板上的压印材料进行成型并固化而在基板上形成图案(结构)的微加工技术也受到了关注。这种技术被称为压印技术，其能够以几纳米量级在基板上形成精细图案。

在使模具与基板上的压印材料接触的步骤中，压印装置需要使预先形成在基板上的图案区域(压射区域)的形状与模具的图案区域的形状相匹配。为了提高这种重叠精度，日本专利第5686779号公报提出了一种压印装置，其包括用于通过向模具施加力而使模具的图案区域变形的机构和用于通过加热基板使基板上的图案区域变形的机构。例如，微镜设备被并入这种使基板上的图案区域变形的机构，以调节加热基板的光的强度分布。

作为一种类型的MEMS的微镜设备被用于广泛的领域，包括显示设备、投影仪装置和曝光装置。微镜设备是通过二维布置矩形反射镜而形成的。反射镜的布置方向与各个反射镜的驱动轴的方向不同。优选地从与各个镜的驱动轴的方向垂直的方向来照射微镜设备。因此，从与反射镜的布置方向不同的方向(角度)来照射微镜设备。由于各个反射镜的驱动轴通常相对于反射镜的布置方向倾斜45°，因此从相对于反射镜的布置方向呈45°的方向来照射微镜设备。

根据多个因素(例如各个镜子的尺寸和分辨率以及光学系统的布置和成本)来选择要用于光学系统的微镜设备。通常，在使用微镜设备的光学系统中，优选在驱动反射镜的同时，从反射镜被布置在垂直方向的阵列面反射光。为此，需要从与反射镜的布置方向不同的方向倾斜地照射微镜设备。在这种情况下，使用防光(shine-proof)光学系统来防止微镜设备的阵列面上的照射形状由于散焦而失真。

如上所述，当执行倾斜照射时，使用防光光学系统以预定照射形状对照射面进行照射。然而，形成防光光学系统会导致装置的成本和尺寸随着光学系统中的透镜数量的增加而增加。

发明内容

本发明例如提供了一种有利于倾斜照射的照射装置。

根据本发明的第一方面，提供了一种执行倾斜照射的照射装置，所述照射装置包括：第一光学元件，其由多个光学部件的阵列形成，各个光学部件被构造为产生点光源；以及第二光学元件，其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域，所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。

根据本发明的第二方面，提供了一种光学装置，其包括：反射镜阵列，其由多个反射镜的阵列形成，各个反射镜具有驱动轴，所述多个反射镜的布置方向不同于所述驱动轴的方向；以及上述被构造为照射所述反射镜阵列的照射装置。

根据本发明的第三方面，提供了一种压印装置，其对基板上的压印材料进行成型，以在所述基板上形成图案，所述压印装置包括：加热设备，其被构造为通过照射所述基板来加热所述基板，以使所述基板变形，其中，所述加热设备包括上述照射装置，并且通过经由所述照射装置照射所述基板来加热所述基板。