[发明专利]一种用于FPC电镀的等离子装置

权利要求书

1.一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，包括：

至少一组等离子反应器(1)和支撑器(2)；

所述等离子反应器(1)和所述支撑器(2)相对设置；

所述等离子反应器(1)上与所述支撑器(2)相邻一侧设有用于喷出等离子气体的气孔；

所述等离子反应器(1)另一侧设有等离子电极(11)；

所述支撑器(2)用于支撑基材。

2.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述支撑器(2)和所述等离子反应器(1)均为长方体结构，且所述等离子反应器(1)与所述支撑器(2)相邻的面为宽度相同。

3.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述支撑器(2)为圆柱状结构；

所述等离子反应器(1)均为长方体结构；

所述等离子反应器(1)的宽度与所述支撑器(2)的底面直径相同。

4.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述支撑器(2)为圆柱状结构；

所述等离子反应器(1)上与所述支撑器(2)相邻一侧为弧形结构；

所述等离子反应器(1)的宽度与所述支撑器(2)的底面直径相同，且所述弧形的弧度与所述支撑器(2)的侧面弧度一致。

5.根据权利要求4所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述等离子反应器(1)上的弧形结构与所述支撑器(2)的弧形侧面等距距离为0.5mm-5mm。

6.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述等离子反应器(1)上的等离子电极(11)与外框间沟槽为1mm-2mm。

7.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述等离子电极(11)的交流高压电电压达到正负5～10KV，频率为10KHZ。

8.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述等离子反应器(1)上的气孔均匀分布。

9.根据权利要求1所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述等离子气体包括：氩气、氧气和/或氮气。

10.根据权利要求9所述的一种用于FPC电镀的等离子装置，其特征在于，

所述等离子气体及其流量关系为

氩气流量1～15L/min、氧气流量0.1～1.5L/min；

或者，

氩气流量1～15L/min、氮气流量0.1～1.5L/min。