[发明专利]混合光刻系统及混合光刻方法有效
| 申请号： | 201710206374.2 | 申请日： | 2017-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106681106B | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | 浦东林;陈林森;朱鹏飞;张瑾;朱鸣;魏国军 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 混合 光刻 系统 方法 | ||
【说明书】：
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