[发明专利]异吲哚硼杂荧光染料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种异吲哚硼杂荧光染料，所述异吲哚硼杂荧光染料的结构如式(I)所示，

其中，R1-R9为氢；R10-R11各自独立为氢、甲基、乙基或丙基；R13为甲基；R12为氢、甲基、乙基、丙基、4-甲基苯乙烯基或4-甲氧基苯乙烯基；X为卤素。

2.根据权利要求1所述的异吲哚硼杂荧光染料，其中，R1-R9为氢，R10为甲基、R11为乙基，R12为甲基或4-甲氧基苯乙烯基，R13为甲基，X为碘。

3.根据权利要求1所述的异吲哚硼杂荧光染料，其中，所述异吲哚硼荧光染料如式(g)或(i)所示，

4.一种如权利要求1所述的如式(I)所示的异吲哚硼杂荧光染料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

在溶剂存在下，将卤代烃R13-X与如式(II)所示结构的化合物按照1：5-10的摩尔比在20-25℃、黑暗中搅拌12-15h、纯化，即得到如式(I)所示的异吲哚硼杂荧光染料；

其中，R1-R9为氢；R10-R11各自独立为氢、甲基、乙基或丙基；R13为甲基；R12为氢、甲基、乙基、丙基、4-甲基苯乙烯基或4-甲氧基苯乙烯基；X为卤素。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其中，所述步骤还包括化合物(II)的制备方法：

1)在溶剂存在下，将如式(II-1)所示结构的化合物与如式(II-2)所示结构的化合物进行第一接触反应得到第一产物；

2)在溶剂存在下，所述第一产物中添加4-吡啶硼酸进行第二接触反应，得到如式(II)所示结构的化合物；

6.根据权利要求4或5所述的制备方法，其中，R1-R9为氢，R10为甲基、R11为乙基，R12为甲基或4-甲氧基苯乙烯基，R13为甲基，X为碘。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其中，相对于1mmol的如式(II-1)所示的化合物，如式(II-2)所示的化合物的用量为1.5-2.3mmol，所述4-吡啶硼酸的用量为2-10mmol。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其中，所述溶剂为二氯甲烷或甲苯。

9.根据权利要求5所述制备方法，其中，所述第一接触反应的反应条件为：反应温度为0-20℃，反应时间为4-5h；

所述第二接触反应的反应条件为：反应温度为20-120℃，反应时间为2-12h。