[发明专利]层叠膜及其制造方法

说明书

本发明提供能够以高水准防止水蒸气透过且具有良好的耐弯曲性的层叠膜。该层叠膜是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，关于上述无机聚合物层的膜厚方向的从该层的表面起的距离与相对于硅原子、氧原子、碳原子和氮原子的合计量的氧原子的比率(氧原子比)，从与上述气体阻隔层相反的一侧的表面起到沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值与从沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％起到上述气体阻隔层侧的表面为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值之比为1.05以上。

技术领域

本发明涉及层叠膜及其制造方法。

背景技术

近年来，有机电致发光元件(以下也称为“有机EL元件”)作为自发光元件备受注目。有机EL元件是具有在支撑基板上用电极夹持有机化合物的发光层而成的结构，通过向电极间供给电流而发光的元件。对于有机EL元件，如果氧气和水蒸气等侵入元件内部则发生劣化，产生被称为暗斑(以下有时省略为DS。)的发光不良部。因此，在有机EL元件的领域，为了抑制氧气和水蒸气侵入元件内部，提出了其发光元件部的支撑基板利用防止水蒸气等气体透过性能高的基板。

作为有机EL元件中利用的具有防止气体透过性能的基板，例如，提出了具备基材和形成在其表面上的含有硅、氧和碳的薄膜层的气体阻隔性的层叠膜(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011－73430号公报

发明内容

上述专利文献1中记载的层叠膜对水蒸气能够得到高的防止气体透过性能，但近年来，对层叠膜要求更高水准的防止水蒸气透过性能。另外，近年来，开发了对有机EL元件等电子设备赋予了柔性的柔性设备，对作为它们的支撑基板使用的气体阻隔性的层叠膜，也要求具有弯折时不易产生裂纹等缺陷的良好的耐弯曲性。

本发明是基于上述现有技术具有的课题而进行的，其目的在于提供能够以高水准防止水蒸气透过且具有良好的耐弯曲性的层叠膜及其制造方法。

为了实现上述目的，本发明提供一种层叠膜，是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，关于上述无机聚合物层的膜厚方向的从该层的表面起的距离与相对于硅原子、氧原子、碳原子和氮原子的合计量的氧原子的比率(氧原子比)，从与上述气体阻隔层相反的一侧的表面起到沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值与从沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％起到上述气体阻隔层侧的表面为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值之比为1.05以上。