[发明专利]一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统

权利要求书

1.一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统，其特征在于：由岸基保障系统及水下作业系统构成，所述岸基保障系统与水下作业系统通过线缆及气缆连接，所述岸基保障系统用于为水下作业系统提供动力、高压空气及保证通信，由所述岸基保障系统控制水下作业系统在水下海洋环境中对水下结构物表面进行清洗检测；

所述岸基保障系统的具体结构如下：

包括上位机(31)、遥控手柄(32)、岸基MCU(33)、电力系统(34)及高压空气系统(30)，由所述遥控手柄(32)及上位机(31)输出控制指令，所述岸基MCU(33)接收所述控制指令并分别控制高压空气系统(30)、电力系统(34)向水下作业系统传输高压空气及电能，所述岸基MCU(33)还接收所述控制指令并控制水下作业系统进行清洗检测作业；

所述水下作业系统的具体结构如下：

包括壳体(44)，在所述壳体(44)的外部设置用于实现对水下结构物清洗、检测动作的行走作业组件，在所述壳体(44)的内部设置用于检测当前工作状态的状态检测组件及用于实现水下作业系统悬停状态的浮力舱；所述行走作业组件包括用于实现水下作业系统在水平方向移动的推进器、用于实现水下作业系统在海洋装备表面行走的行走机构、真空吸盘、摄像头(14)、探照灯(15)、云台(16)及用于海洋装备表面清洗的除污装置(1)，所述摄像头(14)、探照灯(15)设置于云台(16)上，所述云台(16)与壳体(44)连接；所述推进器包括用于实现水平面上三个自由度运动的第二推进器(7)和第四推进器(19)、以及用于提供推动力贴附海洋装备表面的第一推进器(9)及第三推进器(20)；所述行走机构包括第一行走足(3)、第二行走足(6)、第三行走足(22)及第四行走足(26)；所述真空吸盘包括与第一行走足(3)连接的第一吸盘(2)、与第二行走足(6)连接的第二吸盘(5)、与第三行走足(22)连接的第三吸盘(24)及与第四行走足(26)连接的第四吸盘(27)；所述第一行走足(3)、第二行走足(6)、第三行走足(22)、第四行走足(26)均为凸轮式真空吸附行走足；

所述浮力舱包括第一浮力舱(4)、第二浮力舱(10)、第三浮力舱(21)、第四浮力舱(28)，所述第一浮力舱(4)、第二浮力舱(10)、第三浮力舱(21)及第四浮力舱(28)均包括通过管路与高压空气系统(30)连通的活塞缸(36)，于所述管路上分别设置用于通入或排出高压空气的进气阀(42)及排气阀(43)，于所述活塞缸(36)内设置活塞(37)，所述活塞(37)的底部与多根弹簧(38)的一端连接，所述弹簧(38)的另一端与所述活塞缸(36)的底部连接，在所述活塞缸(36)的底部中心处还开设进出水口(39)。

2.如权利要求1所述的一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统，其特征在于：所述第一行走足(3)、第二行走足(6)位于所述壳体(44)的一侧，所述第三行走足(22)、第四行走足(26)位于所述壳体(44)的另一侧。

3.如权利要求1所述的一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统，其特征在于：所述状态检测组件包括第一位移传感器(8)、第二位移传感器(11)、第三位移传感器(18)、第四位移传感器(25)、用于检测水下作业系统工作姿态的电子罗经(23)及用于检测水下作业系统作业深度的深度传感器(29)。

4.如权利要求1所述的一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统，其特征在于：在活塞缸(36)内还设置用于测量活塞缸(36)内部高压空气含量的测距传感元件(41)，沿所述活塞缸(36)的内壁还设置限位器(35)，在所述活塞(37)的外圈还设置活塞密封圈(40)；所述测距传感元件(41)包括用于第一浮力舱(4)的第一位移传感器(8)、用于第二浮力舱(10)的第二位移传感器(11)、用于第三浮力舱(21)的第三位移传感器(18)及用于第四浮力舱(28)的第四位移传感器(25)。

5.如权利要求1所述的一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统，其特征在于：在所述壳体(44)上还设置配电箱(17)及高压空气控制箱(12)。

6.如权利要求1所述的一种基于浮力舱的水下结构物表面清洗检测系统，其特征在于：所述第一推进器(9)及第二推进器(7)均位于所述壳体(44)的一侧，所述第三推进器(20)位于壳体(44)的尾部，所述第四推进器(19)位于所述壳体(44)的另一侧。