[发明专利]具有射频供电的法拉第屏蔽件的包括线圈的衬底处理系统

权利要求书

1.一种衬底处理系统，其包括：

处理室，其包括电介质窗和布置在其中以支撑衬底的衬底支撑件；

线圈，其布置在所述处理室的外部与所述电介质窗相邻；

法拉第屏蔽件，其布置在所述线圈和所述电介质窗之间；以及

RF发生器，其被配置为向所述线圈提供RF功率。

2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其还包括连接到所述线圈和所述法拉第屏蔽件中的一个以改变沿着所述线圈的电压驻波的位置的电容器。

3.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其还包括布置在所述RF发生器和所述线圈之间的调谐电路。

4.根据权利要求3所述的衬底处理系统，其中所述调谐电路包括：

第一可变电容器，其包括第一端和第二端，该第一端连接到所述RF发生器；

第二可变电容器，其包括连接到所述第一可变电容器的所述第二端的第一端；以及

第三可变电容器，其包括第一端和第二端，其中所述第三可变电容器的所述第一端连接到所述第一可变电容器的所述第二端和所述第二可变电容器的所述第一端，并且所述第三可变电容器的所述第二端连接到线圈。

5.根据权利要求3所述的衬底处理系统，其中：

所述线圈包括第一端和第二端；

所述调谐电路连接到所述第一端；以及

所述第二端连接到所述法拉第屏蔽件。

6.根据权利要求5所述的衬底处理系统，其中所述第二端对应于所述线圈的中心抽头。

7.根据权利要求5所述的衬底处理系统，其还包括电容器，所述电容器包括连接到所述第二端的一端和连接到固定参考电位的相对端。

8.根据权利要求3所述的衬底处理系统，其中：

所述线圈包括第一端和第二端；

所述调谐电路连接到所述线圈的所述第一端；以及

所述线圈通过杂散电容耦合到所述法拉第屏蔽件。

9.根据权利要求8所述的衬底处理系统，其还包括第一电容器，所述第一电容器包括连接到所述法拉第屏蔽件的第一端和连接到固定参考电位的第二端。

10.根据权利要求8所述的衬底处理系统，其还包括第一电容器，所述第一电容器包括连接到所述线圈的第一端和连接到固定参考电位的第二端。